[发明专利]终点判断方法在审

专利信息
申请号: 201410098667.X 申请日: 2014-03-17
公开(公告)号: CN103839851A 公开(公告)日: 2014-06-04
发明(设计)人: 王敬平;周广伟;彭精卫;党华 申请(专利权)人: 上海华虹宏力半导体制造有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66;G06F19/00
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 郑玮
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 终点 判断 方法
【权利要求书】:

1.一种终点判断方法,用于在干法刻蚀中判断反应气体的含量,其特征在于,包括:

利用一侦测模块侦测反应腔中反应气体的辉光强度;

利用一数据处理模块接收由侦测模块获得的数据并进行处理;其中,在进行数据处理时,不对所述数据进行平滑处理;

将所述数据处理后由一显示模块显示并分析。

2.如权利要求1所述的终点判断方法,其特征在于,对处理后的数据进行分析包括在设定的时间段内反应气体的辉光强度变动是否符合设定标准,若符合设定标准,则辉光强度变动末端的时间点即为所述终点。

3.如权利要求1所述的终点判断方法,其特征在于,所述显示模块显示出所述反应气体的辉光强度随时间的变化曲线。

4.如权利要求3所述的终点判断方法,其特征在于,所述辉光强度以相对值表示,所述相对值为反应起始时间之后某一时刻时所对应的辉光强度与反应起始时间辉光强度的比值的以10为底的对数值。

5.如权利要求4所述的终点判断方法,其特征在于,所述反应起始时间为0~10s。

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