[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，包括衬底基板以及设置在所述衬底基板上的多层薄膜，其特征在于，至少一层薄膜具有薄膜图案，且至少一层薄膜在不同区域的厚度与形成该区域薄膜的衬底表面到衬底基板的距离成反比。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述衬底基板上依次设置有栅金属层、覆盖所述栅金属层的栅绝缘层、有源层、源漏金属层、像素电极层以及钝化层，其中所述栅金属层包括栅线，所述栅绝缘层在对应栅线区域的厚度小于栅绝缘层未对应薄膜图案区域的厚度。

3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述源漏金属层包括源极和漏极，所述钝化层至少在对应所述源极和漏极区域的厚度小于钝化层未对应薄膜图案区域的厚度。

4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述源极和漏极分别位于所述栅极的两侧，所述有源层在对应源极和漏极之间的区域设置有半导体图案，所述钝化层在对应所述半导体图案区域的厚度大于对应源极和漏极区域的厚度。

5.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述像素电极层包括像素电极，所述像素电极与漏极电连接，所述钝化层在对应所述像素电极区域的厚度小于钝化层未对应薄膜图案区域的厚度。

6.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上形成至少一层具有薄膜图案的薄膜；

在衬底基板上形成至少一层在不同区域的厚度与形成该区域薄膜的衬底表面到衬底基板的距离成反比的薄膜。

7.根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于，

在衬底基板上形成栅金属层，其中所述栅金属层包括栅线；

在所述衬底基板上形成栅绝缘层，其中，所述栅绝缘层覆盖所述栅金属层，且所述栅绝缘层在对应栅线区域的厚度小于栅绝缘层未对应薄膜图案区域的厚度；

在所述衬底基板上依次形成有源层、源漏金属层、像素电极层以及钝化层。

8.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述源漏金属层包括源极和漏极，所述钝化层至少在对应所述源极和漏极区域的厚度小于钝化层未对应薄膜图案区域的厚度。

9.根据权利要求8所述的制作方法，其特征在于，所述源极和漏极分别位于所述栅极的两侧，所述有源层在对应源极和漏极之间的区域设置有半导体图案，所述钝化层在对应所述半导体图案区域的厚度大于对应源极和漏极区域的厚度。

10.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述像素电极层包括像素电极，所述像素电极与漏极电连接，所述钝化层在对应所述像素电极区域的厚度小于钝化层未对应薄膜图案区域的厚度。

11.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-5任一项所述的阵列基板。