[发明专利]用于硬盘驱动器的垂直记录介质在审
申请号: | 201410073706.0 | 申请日: | 2014-02-28 |
公开(公告)号: | CN104021801A | 公开(公告)日: | 2014-09-03 |
发明(设计)人: | 阿姆软德·辛格;鸣林明明;金泽宏;孔文祥 | 申请(专利权)人: | 昭和电工HD新加坡有限公司 |
主分类号: | G11B5/31 | 分类号: | G11B5/31;G11B5/127;G11B5/187 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 郑小粤 |
地址: | 新加坡*** | 国省代码: | 新加坡;SG |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 硬盘驱动器 垂直 记录 介质 | ||
1.一种垂直记录介质,包括:
基底,具有在其上形成的籽晶层;
软磁底层,其在所述籽晶层上形成;
取向控制层,其在所述软磁底层上形成;
中间层,其在所述取向控制层上形成;
闪存层,其在所述中间层上形成,所述闪存层包括氧化物;以及
记录层,其在所述闪存层上形成,所述闪存层中的所述氧化物形成边界,所述边界具有隔离作用,以影响所述记录层中的晶粒间的交换耦合。
2.如权利要求1所述的垂直记录介质,其中所述闪存层中的所述氧化物的体积含量约为30%至50%。
3.如权利要求1所述的垂直记录介质,其中所述闪存层的厚度在约0.5nm至约1nm之间。
4.如权利要求1所述的垂直记录介质,其中所述闪存层的压力在约5Pa至10Pa之间。
5.如权利要求1所述的垂直记录介质,其中所述中间层的厚度在约7nm至约10nm之间。
6.如权利要求1所述的垂直记录介质,其中所述中间层的压力在约10Pa至约16Pa之间。
7.如权利要求1所述的垂直记录介质,其中所述闪存层被配置,使得所述闪存层的增加的厚度改善所述垂直记录介质的高频响应。
8.如权利要求1所述的垂直记录介质,其中所述闪存层被配置,使得在所述闪存层增加的压力改善所述垂直记录介质的高频响应。
9.如权利要求1所述的垂直记录介质,其中所述中间层被配置,使得在所述中间层增加的压力改善垂直记录介质的高频响应。
10.如权利要求1所述的垂直记录介质,其中所述闪存层被配置,使得所述闪存层的增加的厚度降低所述垂直记录介质中的团簇尺寸。
11.如权利要求1所述的垂直记录介质,其中所述闪存层被配置,使得在所述闪存层增加的压力降低所述垂直记录介质中的团簇尺寸。
12.如权利要求1所述的垂直记录介质,其中所述中间层被配置,使得在所述中间层增加的压力降低团簇尺寸。
13.如权利要求1所述的垂直记录介质,其中所述闪存层包括:
第一磁性层,所述第一磁性层具有高的各向异性常数Ku和厚度在约1nm至约2nm之间的晶粒边界;
第二磁性层,其在所述第一磁性层上形成,所述第二磁性层具有低于所述第一磁性层的各向异性常数Ku,且具有比所述第一磁性层薄的晶粒边界;
其中所述闪存层在所述垂直记录介质的所述中间层上形成。
14.如权利要求13所述的垂直记录介质,其中所述第一磁性层和所述第二磁性层的压力在约3Pa至约7Pa之间。
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