[发明专利]基板及其制造方法、显示装置

权利要求书

1.一种基板，其特征在于：包括衬底基板，以及形成于所述衬底基板上的黑矩阵和公共金属层；其中，所述公共金属层与所述黑矩阵的图形相同；还包括第一透明电极和第二透明电极，所述第一透明电极为公共电极，所述第二透明电极为像素电极，该公共电极直接覆盖在所述公共金属层上；或者，所述第一透明电极为像素电极，所述第二透明电极为公共电极，该公共电极与所述公共金属层电连接。

2.根据权利要求1所述的基板，其特征在于：所述基板为彩膜基板，所述基板还包括形成于所述衬底基板上的彩膜层。

3.根据权利要求1所述的基板，其特征在于：所述基板为阵列基板，所述基板还包括形成于所述衬底基板上的薄膜晶体管单元。

4.根据权利要求3所述的基板，其特征在于：还包括形成于薄膜晶体管单元上方的树脂层，以及形成于所述树脂层下方的彩膜层。

5.一种基板的制造方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成黑矩阵和公共金属层的图形，所述黑矩阵和所述公共金属层的图形相同；在所述在衬底基板上形成黑矩阵和公共金属层的图形之后，还包括：

形成第一透明电极的图形；

形成保护层的图形；

形成第二透明电极的图形。

6.根据权利要求5所述的制造方法，其特征在于，还包括：

在衬底基板上形成彩膜层的图形。

7.根据权利要求5所述的制造方法，其特征在于，在所述在衬底基板上形成黑矩阵和公共金属层的图形之前，还包括：

形成薄膜晶体管单元；

形成树脂层的图形。

8.根据权利要求7所述的制造方法，其特征在于，在所述在衬底基板上形成薄膜晶体管单元之后，还包括：

形成彩膜层的图形。

9.根据权利要求5所述的制造方法，其特征在于，所述形成黑矩阵和公共金属层的图形，具体为：

形成黑矩阵层；

利用掩膜版，对所述黑矩阵层进行光刻工艺，形成黑矩阵的图形；

形成公共金属层；

利用所述掩膜版，对所述公共金属层进行光刻工艺，形成公共金属层的图形。

10.根据权利要求5所述的制造方法，其特征在于，所述形成黑矩阵和公共金属层的图形，具体为：

形成黑矩阵层；

在所述黑矩阵层上形成公共金属层；

利用掩膜版，对所述公共金属层进行光刻工艺，形成公共金属层的图形；

以所述公共金属层的图形作为掩膜，对所述黑矩阵层进行灰化工艺，形成黑矩阵的图形。

11.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1至4任一项所述的基板。