[发明专利]光学薄膜的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种光学薄膜的制造方法，尤其涉及一种用于显示装置中的光学薄膜的制造方法。

背景技术

聚合物薄膜以优异的透光性和柔软性、以及可实现轻质薄膜化等优点而被用作各种光学薄膜。在聚合物薄膜中，纤维素酰化物薄膜被用作液晶显示装置的偏光板保护薄膜、延迟薄膜等光学薄膜。

作为聚合物薄膜的主要制造方法，有熔融挤出方法和溶液制膜方法。熔融挤出方法为如下方法，即将聚合物直接加热溶解之后，利用挤出机挤出而制造聚合物薄膜。熔融挤出方法具有聚合物薄膜的生产率高、设备成本较低等特征。另一方面，溶液制膜方法将聚合物溶解于溶剂中的聚合物溶液（以下，称作浓液（dope））流延到支撑体上而形成流延膜。并且，溶液制膜方法为如下方法，即自流延膜具有自支撑性之后，通过从支撑体剥下含溶剂状态的流延膜而形成薄膜，并干燥该薄膜。与熔融挤出方法相比，该溶液制膜方法能够获得厚度均匀性优异且所含杂质少的薄膜，因此尤其适合于光学薄膜的制造方法。

近年来，对液晶显示器等显示装置所要求的性能逐渐提高，对用于显示装置中的光学薄膜等显示装置所要求的性能也不断提高。例如，在液晶显示器方面，厚度逐渐变薄、画面逐渐增大、亮度逐渐提高，随此，对于相位差薄膜等光学薄膜的光学特性均匀性和透明度提出更严格的要求。

并且，对用于液晶显示装置等中的光学薄膜，要求在规定的环境条件下要确保一定的特性和品质。例如，在高温高湿条件（例如，温度60℃以上，且相对湿度90%RH）下，因耐久性试验（以下，称作湿热耐久性试验）而有可能导致聚合物薄膜的延迟变化，要求由这种湿热耐久性试验引起的延迟变化小。

为了抑制如上所述的透明度的降低和由湿热耐久性试验引起的延迟变化，曾提出过各种方案。例如，日本专利第4686916号公报中提出通过共流延来制造3层结构的纤维素酰化物薄膜的方法。该日本专利第4686916号公报中，核层和第1表层由含有纤维素酰化物、有机溶剂以及添加剂，且添加剂含量互不相同的浓液形成，第2表层由含有纤维素酰化物、微粒及有机溶剂的浓液形成。核层为厚度方向上的中央层，第1表层设置在核层的一面，第2表层设置在核层的另一面。并且，对于通过从支撑体剥下含有溶剂状态的流延膜而形成的薄膜，在残余溶剂含量为3质量%以上且50质量%以下范围内的期间或进行拉伸时的薄膜温度设为140℃以上且200℃以下范围内，同时至少向宽度方向拉伸该薄膜。由此，日本专利第4686916号公报制造透明度优异的薄膜。

并且，日本专利公开2010-107949号公报中，通过对经过拉伸步骤的聚合物薄膜实施水蒸气接触处理和热处理，在将由湿热耐久性试验引起的延迟变化抑制得较小。进行水蒸气接触处理的水蒸气接触步骤中，使水蒸气接触经过拉伸步骤之后的聚合物薄膜，并将聚合物薄膜温度维持在100℃以上且150℃以下范围内。热处理步骤中，使干燥的气体接触经过水蒸气接触步骤的聚合物薄膜，并将聚合物薄膜温度维持在120℃以上且130℃以下范围内。

另外，为了使聚合物薄膜显现目标光学特性，多数情况下，进行例如向宽度方向拉伸长尺寸聚合物薄膜的拉伸处理。

为了使光学薄膜显现目标延迟，厚度越薄，越需要在拉伸处理中以更高的拉伸比拉伸聚合物薄膜，然而,拉伸比越高，聚合物薄膜的透明度越低。并且，为了维持透明度，在拉伸处理中需要在设为更高温度的状态下拉伸聚合物薄膜。然而，在拉伸处理中，这样，在将聚合物薄膜温度设为更高的状态下拉伸比越高，由湿热耐久性试验引起的延迟变化变得越大。以日本专利第4686916号公报的方法无法将由这种湿热耐久性试验引起的延迟变化抑制得较小。

并且，根据日本专利公开2010-107949号公报的方法，能够获得透明度优异的薄膜，并且，在将由湿热耐久性试验引起的延迟变化抑制得较小这一方面也有一定的效果。然而，日本专利公开2010-107949号公报的方法，在有关由湿热耐久性试验引起的变化方面，并未确实达到目前所要求的水平。

发明内容

本发明的目的在于提供一种能够将由湿热耐久性试验引起的延迟变化抑制得较小、且透明度优异的光学薄膜的制造方法。