[发明专利]一种非接触式光刻机的晶圆校准水平装置及其应用有效

专利信息
申请号: 201410057628.5 申请日: 2014-02-20
公开(公告)号: CN103777478A 公开(公告)日: 2014-05-07
发明(设计)人: 王维斌;赖志明;陈锦辉 申请(专利权)人: 江阴长电先进封装有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00;G03F7/20;H01L21/68
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 彭英
地址: 214429 江苏省无锡市江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 接触 光刻 校准 水平 装置 及其 应用
【权利要求书】:

1.一种非接触式光刻机的晶圆校准水平装置,其特征在于:所述晶圆校准水平装置(300)包括一环状物件(310)和分散设置于环状物件(310)的上表面的若干个均匀分布的突起物(320),所述突起物(320)与环状物件(310)固定连接,所述突起物(320)的高度相等、且其高度高于晶圆样片(100)的上表面。

2.根据权利要求1所述的晶圆校准水平装置,其特征在于:所述突起物(320)的横截面呈圆形,其面向晶圆校准水平装置(300)中心的内侧面不超出环状物件(310)的对应的内侧面。

3.根据权利要求1所述的晶圆校准水平装置,其特征在于:所述突起物(320)的横截面呈矩形或多边形。

4.根据权利要求3所述的晶圆校准水平装置,其特征在于:所述突起物(320)的内侧面朝向晶圆校准水平装置(300)的中心,其面向晶圆校准水平装置(300)中心的内侧面不超出环状物件(310)的对应的内侧面。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的晶圆校准水平装置,其特征在于:所述突起物(320)至少有三个。

6.一种非接触式光刻机的晶圆校准水平机构,包括底盘(210)、设置于底盘(210)表面的吸盘(220)、以及固接于吸盘(220)正上方的光刻版(230),所述光刻版(230)为水平基准面,所述底盘(210)和吸盘(220)彼此平行,且能在动力驱动下同时上下运动、在外力挤压下同时扭转一定角度,所述吸盘(220)的尺寸小于底盘(210)的尺寸,所述吸盘(220)的表面吸附晶圆样片(100),其特征在于:所述吸盘(220)的外围套装如权利要求1至5中任一项所述的晶圆校准水平装置(300),所述晶圆校准水平装置(300)套装于底盘(210)的表面,所述突起物(320)的上端面与底盘(210)的表面彼此平行。

7.根据权利要求6所述的晶圆校准水平机构,其特征在于:所述突起物(320)的高度高于吸盘(220)和吸附于所述吸盘(220)之上的晶圆样片(100)的厚度之和。

8.根据权利要求6所述的晶圆校准水平机构,其特征在于:所述环状物件(310)的内周与吸盘(220)的外周形状相同。

9.根据权利要求8所述的晶圆校准水平机构,其特征在于:所述环状物件(310)的内周与吸盘(220)的外周的横截面形状均为圆形或方形。

10.根据权利要求9所述的晶圆校准水平机构,其特征在于:所述环状物件(310)的内周与吸盘(220)的外周之间设有螺纹或垫片。

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