[发明专利]一种POSS改性纳米粒子的制备方法

权利要求书

1.一种POSS改性纳米粒子的制备方法，其特征在于包括以下步骤：

1）合成二氧化硅纳米粒子；

2）合成含有三甲氧基硅烷基团的功能型RAFT试剂，用含有三甲氧基硅烷基团的功能型RAFT试剂处理表面活化的二氧化硅表面，使得二氧化硅纳米粒子表面修饰有RAFT试剂；

3）以步骤2）所得表面修饰有RAFT试剂的二氧化硅纳米粒子、单体MAPOSS、引发剂和四氢呋喃组成聚合体系，搅拌条件下，惰性气氛中，在舒伦克管中进行RAFT聚合，离心分离后得到带有聚合物壳、二氧化硅纳米粒子为核的POSS改性纳米粒子。

2.如权利要求1所述一种POSS改性纳米粒子的制备方法，其特征在于在步骤1）中，所述合成二氧化硅纳米粒子采用法水解正硅酸乙酯，合成分布均匀尺寸在100nm左右的二氧化硅纳米粒子。

3.如权利要求1所述一种POSS改性纳米粒子的制备方法，其特征在于在步骤3）中，所述单体MAPOSS为一种含有双键的分子内杂化单体MAPOSS。

4.如权利要求1所述一种POSS改性纳米粒子的制备方法，其特征在于在步骤3）中，所述引发剂采用偶氮二异丁腈。

5.如权利要求1所述一种POSS改性纳米粒子的制备方法，其特征在于在步骤3）中，按摩尔比，单体MAPOSS∶RFAT试剂∶引发剂＝（80～120）∶（4～6）∶（0.8～1.2）。

6.如权利要求1所述一种POSS改性纳米粒子的制备方法，其特征在于在步骤3）中，所述RAFT聚合的温度为60～80℃，RAFT聚合的时间至少24h。

7.如权利要求1～6任意一种POSS改性纳米粒子制备方法制备的POSS改性纳米粒子。