[发明专利]用于在衬底上沉积有机膜的设备无效

专利信息
申请号: 201410017455.4 申请日: 2014-01-15
公开(公告)号: CN104112826A 公开(公告)日: 2014-10-22
发明(设计)人: 金基铉 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;C23C14/56;C23C14/04;C23C14/12
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人: 余朦;杨莘
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 用于 衬底 沉积 有机 设备
【说明书】:

技术领域

发明大体上涉及用于沉积有机薄膜的设备。详细地,本发明大体上涉及在用于制造有机电场发光元件的衬底上沉积有机薄膜的设备。

背景技术

在显示装置中,OLED显示器具有宽视角、高对比度、以及高响应速度。因此,OLED显示器作为下一代显示装置而备受关注。

有机发光二极管(OLED)显示器通过以下步骤制造:通过光刻过程在衬底上沉积并图案化透明导电材料以形成具有预定图案的正电极(阳极);通过使用沉积掩模在正电极上形成表现红色、绿色、以及蓝色的有机薄膜;以及在有机薄膜上形成具有预定图案的负电极(阴极)。

背景技术部分中公开的以上信息仅用于增强对本发明背景的理解,因此其可以包括不形成在该国中对本领域的普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

一个示例性实施方式提供了一种薄膜沉积设备,其包括使用薄膜的柔性材料的卷对卷型沉积掩模。

根据示例性实施方式的薄膜沉积设备包括:处理室;衬底支承构件,设置在处理室中并支承衬底;沉积源,设置成面对衬底支承构件并向衬底供给有机材料;以及沉积掩模组件,包括第一辊和第二辊,第一辊和第二辊在平行于衬底的方向上设置成彼此分离,并且柔性材料的薄膜掩模卷绕至第一辊和第二辊并设置成与衬底接近。

薄膜掩模可设置为柔性薄膜型的聚合物、金属、或玻璃材料。

沉积掩模组件还可包括移动单元,该移动单元使第一辊和第二辊移动,使得薄膜掩模相对于衬底的沉积表面相对地移动。

移动单元可包括辊支承构件和驱动器,其中辊支承构件呈具有一个开放表面的箱状并提供有第一辊和第二辊并且辊支承构件将沉积源接纳在其中,驱动器使辊支承构件移动。

移动单元可包括辊支承构件和驱动器,其相对于薄膜掩模定位在沉积源的相对侧并与第一辊和第二辊相接合,驱动器使辊支承构件移动。

驱动器层可包括:旋转驱动器,使辊支承构件绕垂直于衬底的沉积表面的旋转轴线旋转;第一线性驱动器,使辊支承构件在旋转轴线的方向上线性地移动;第二线性驱动器,使辊支承构件在平行于衬底的沉积表面的第一方向上线性地移动;以及第三线性驱动器,使辊支承构件在垂直于第一方向且平行于衬底的沉积表面的第二方向上线性地移动。

薄膜掩模可包括沿薄膜掩模的长度方向彼此具有不同形状的多个沉积图案。

衬底支承构件可装载有衬底,在该衬底中沉积层通过多个沉积图案中的一个沉积图案形成,并且可旋转第一辊和第二辊,以使得薄膜掩模的一个沉积图案面对衬底。

衬底支承构件可装载有大面积衬底,在该大面积衬底中沉积层形成为具有多个沉积图案中的至少两个沉积图案,并且第一辊和第二辊可随衬底支承构件、第一辊和第二辊、以及沉积源的相对运动而旋转,以使得薄膜掩模的至少两个沉积图案顺序地面对大面积衬底上的不同区域。

衬底支承构件可相对于第一辊和第二辊在平行于薄膜掩模的方向上移动。

第一辊和第二辊以及沉积源可相对于衬底支承构件在平行于大面积衬底的方向上移动。

本发明的一方面提供了一种薄膜沉积设备,其可包括:处理室;衬底支承件,包括配置成支承处理室中的衬底的平坦表面;沉积源,配置成将用于沉积的有机材料供给至衬底上;沉积掩模组件,包括在处理室中设置成彼此分开的第一辊和第二辊;薄膜掩模卷,具有绕第一辊卷绕的第一端和绕第二辊卷绕的第二端,其中沉积掩模限定在第一面上并且薄膜掩模卷的一部分在第一辊与第二辊之间延伸;以及衬底运输机构,配置成在处理室内在平行于第一平面的第二平面上传输衬底支承件。

在上述设备中,薄膜掩模卷可包括聚合物、金属、或玻璃材料中的一种。沉积掩模组件还可包括配置成相对于衬底支承件移动第一辊和第二辊的移动单元。移动单元可包括:辊支承构件,包括具有开放顶部的箱,第一辊和第二辊位于开放顶部附近,其中沉积源位于该箱中;以及驱动器,配置成使辊支承构件移动。移动单元可包括:辊支承构件,相对于沉积掩模位于沉积源的相对侧并与第一辊和第二辊相接合;以及驱动器,配置成使辊支承构件移动。驱动器可包括:旋转驱动器,配置成使辊支承构件绕垂直于第一平面的旋转轴线旋转;第一线性驱动器,配置成使辊支承构件在旋转轴线的方向上线性地移动;第二线性驱动器,配置成使辊支承构件在平行于第一平面的第一方向上线性地移动;以及第三线性驱动器,使辊支承构件在垂直于第一方向且平行于第一平面的第二方向上线性地移动。

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