[发明专利]用于在衬底上沉积有机膜的设备

权利要求书

1.一种薄膜沉积设备，包括：

处理室；

衬底支承件，包括配置成支承所述处理室中的衬底的平坦表面；

沉积源，配置成将用于沉积的有机材料供给至所述衬底上；

沉积掩模组件，包括在所述处理室中设置成彼此分开的第一辊和第二辊；

薄膜掩模卷，具有绕所述第一辊卷绕的第一端和绕所述第二辊卷绕的第二端，其中沉积掩模限定在第一平面上并且所述薄膜掩模卷的一部分在所述第一辊与所述第二辊之间延伸；以及

衬底输送机构，配置成在所述处理室内在平行于所述第一平面的第二平面上转移所述衬底支承件。

2.根据权利要求1所述的薄膜沉积设备，其中所述薄膜掩模卷包括聚合物、金属、或玻璃材料中的一种。

3.根据权利要求1所述的薄膜沉积设备，其中所述沉积掩模组件还包括移动单元，所述移动单元配置成使所述第一辊和所述第二辊相对于所述衬底支承件移动。

4.根据权利要求3所述的薄膜沉积设备，其中所述移动单元包括：

辊支承构件，包括具有开放顶部的箱，所述第一辊和所述第二辊位于所述开放顶部附近，其中所述沉积源位于所述箱中；以及

驱动器，配置成使所述辊支承构件移动。

5.根据权利要求3所述的薄膜沉积设备，其中所述移动单元包括：

辊支承构件，相对于所述沉积掩模位于所述沉积源的相对侧并与所述第一辊和所述第二辊相接合；以及

驱动器，配置成使所述辊支承构件移动。

6.根据权利要求4所述的薄膜沉积设备，其中所述驱动器包括：

旋转驱动器，配置成使所述辊支承构件绕垂直于所述第一平面的旋转轴线旋转；

第一线性驱动器，配置成使所述辊支承构件在所述旋转轴线的方向上线性地移动；

第二线性驱动器，配置成使所述辊支承构件在平行于所述第一平面的第一方向上线性地移动；以及

第三线性驱动器，使所述辊支承构件在垂直于所述第一方向且平行于所述第一平面的第二方向上线性地移动。

7.根据权利要求1所述的薄膜沉积设备，其中所述薄膜掩模卷可包括一个或多个额外的沉积掩模，所述沉积掩模包括彼此不同的沉积图案并设置在所述薄膜掩模卷的长度方向上。

8.根据权利要求7所述的薄膜沉积设备，其中所述衬底支承件配置成装载将使用从所述沉积图案中选择的一个沉积图案进行沉积的衬底；以及

其中所述第一辊和所述第二辊可配置成旋转以使所述沉积掩模的被选择的沉积图案放置在所述第一辊与所述第二辊之间。

9.根据权利要求7所述的薄膜沉积设备，其中所述衬底支承件配置成装载将使用从所述沉积图案中选择的至少两个沉积图案进行沉积的衬底；以及

其中所述第一辊和所述第二辊配置成随所述衬底支承件、所述第一辊和所述第二辊、以及所述沉积源的相对运动进行旋转，使得所述沉积掩模的被选择的沉积图案顺序地提供在第一辊与第二辊之间，以沉积所述衬底上的不同区域。

10.根据权利要求9所述的薄膜沉积设备，其中所述衬底支承件配置成相对于所述第一辊和所述第二辊在平行于所述沉积掩模的方向上移动。

11.根据权利要求9所述的薄膜沉积设备，其中所述第一辊和所述第二辊以及所述沉积源配置成相对于所述衬底支承件在平行于所述衬底的方向上移动。