[发明专利]风机过滤单元

说明书

技术领域

本发明涉及半导体设备领域，具体是涉及一种用于净化/无尘/洁净室气体的风机过滤单元。

背景技术

半导体立式炉设备是集成电路装备的一种，可用于集成电路制造工艺过程中的氧化、退火、化学气相淀积等工艺过程。由于硅片的制造有极高的外界环境要求，尤其是随着集成电路制造工艺的更新换代，要求立式炉设备内部微环境满足一级洁净室的高洁净度和均匀的水平流场等要求。

风机过滤单元（FFU）是将风机和过滤器组合在一起，风机由FFU空腔将空气吸入并经过过滤器，从而形成洁净的均匀气流。FFU广泛应用于半导体生产商的洁净室，可为洁净室提供较为稳定的洁净气流。但现有FFU的风机位于FFU空腔内部，且目前市场中广泛应用的风机尺寸较大，极大地占用了空腔空间，导致FFU整体厚度方向尺寸过大。

半导体立式炉设备微环境为密闭空间，通过风机过滤单元将内部气流循环交替，最终为微环境提供稳定的、高洁净度的、均匀的水平气流。由于半导体立式炉设备结构的特点，一方面半导体立式炉设备在厚度方向给FFU提供的空间尺寸有限；另一方面又要求过滤器提供较高过滤效率，而过滤效率要求越高，过滤器的滤芯就越厚，占用空腔空间就越大。因此，目前应用的FFU结构不能满足半导体立式炉设备对空间的要求。

因此，在半导体立式炉设备本身的有限的空间内，如何充分的利用半导体立式炉设备中空腔的空间成为本领域技术人员亟待解决的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种风机过滤单元，使半导体立式炉设备中空腔的空间得到最大利用。

本发明为解决上述技术问题而采用的技术方案是提供一种风机过滤单元，安装在半导体立式炉设备的侧壁上，包括：

壳体,所述壳体为长方体中空结构，壳体的正面开设有出风口；

第一过滤器,用于过滤气流中的颗粒物，所述第一过滤器固定安装在壳体的出风口处，所述出风口的尺寸与第一过滤器尺寸相匹配；以及

空腔,所述第一过滤器与所述壳体之间设有供气流通过的空腔；

所述壳体的底部设有凸出的离心风机安装位，所述离心风机安装位上设有离心风机，靠近离心风机进气端的壳体底部设有进气口，所述进气口将半导体立式炉设备内的气流吸入，经过离心风机并排送气体至空腔，经第一过滤器过滤后，提供气流至半导体立式炉设备内部。

优选的，所述第一过滤器与所述壳体之间通过阶梯状的支撑骨架固定连接，所述支撑骨架包括第一凸台和第二凸台，所述第一凸台的长度与所述第一过滤器的厚度相匹配。

优选的，所述第一过滤器与所述壳体之间还设有第二过滤器，所述第二过滤器安装在所述支撑骨架的第二凸台上，所述第二凸台的长度与所述第二过滤器的厚度相匹配。

优选的，所述第一过滤器与支撑骨架之间设有密封垫。

优选的，所述密封垫为柔性件。

优选的，所述第一过滤器的出风侧固定连接至少一块均流板，所述均流板上设有若干个供气流通过的通孔。

优选的，所述离心风机与所述壳体之间设有减震装置。

优选的，所述减震装置包括安装板和减震垫，所述安装板和减震垫上均设有与离心风机出风口相匹配的通孔，所述离心风机的出风口处依次固定连接安装板及减震垫。

优选的，所述空腔的顶部设有至少一个用于向空腔补充洁净的气流的补气进气口。

优选的，所述进气口末端固定连接用于降低气流噪音的消音器。

本发明的优势在于：

1.本发明通过所述壳体的底部设有离心风机安装位，所述离心风机安装在壳体底部的离心风机安装位上，从而不占用空腔的空间，从而使FFU的空腔空间得到最大的利用。

2.本发明采用双过滤器结构，提高了气流的洁净度，进而提高了过滤器的过滤效率。

3.本发明通过所述第一过滤器与支撑骨架之间设有密封垫，提高风机过滤单元的密封性。

4.本发明在所述过滤器的出风侧设有均流板，使FFU均流效果更好。

5.本发明通过在离心风机上增设减震装置，减小风机振动对FFU的影响。

6.本发明通过在FFU空腔的上方设计一个洁净气体的进气口，用于向设备微环境补充洁净的气流；进气口末端设计消音装置，从而降低高速气流产生的噪音。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。