[发明专利]用于吸取和保持晶片的卡盘

权利要求书

1.一种用于吸取和保持晶片的卡盘，包括细分成多个吸取分段的平坦顶表面，其中所述吸取分段的每个均被配置成吸取流体；以及底表面，

其中：

所述顶表面配置成在流体内被带到晶片附近使得所述吸取分段中的两个或更多个吸取分段由所述晶片覆盖，至少松弛地覆盖；并且

所述吸取分段中的每个是单独可激活的，其中

设置级联连接，其具有被配置为以真空供应的入口，并且连接到吸取分段以单独地激活所述吸取分段，其中所述级联连接被配置为施加额外的真空以稳定地保持晶片。

2.根据权利要求1所述的卡盘，其中所述卡盘进一步包括：

被配置成向所述吸取分段中的每个供应辅助真空的装置；

被配置成在所述吸取分段中的任一个处测量当相应吸取分段被供应有辅助真空时由该相应吸取分段吸取的流体的低压或流体的体积流的流速的装置；以及

与被配置成测量低压或流速的所述装置中的每个连接的装置，其被配置成在所述吸取分段处确定的包括至少一个压力检测装置或至少一个流速检测装置，其被配置成确定当被供应有辅助真空时在哪个吸取分段处测量出流体的低压的最大绝对值或流体的最小体积流。

3.根据权利要求1所述的卡盘，

其中：

所述卡盘的顶表面是圆盘；

内吸取分段被布置在所述顶表面的中心点周围；更远吸取分段以环形被布置在所述内吸取分段周围。

4.根据权利要求3所述的卡盘，其中所述吸取分段中的每个包括被布置在所述卡盘的顶表面上的互连凹槽系统。

5.根据权利要求1所述的卡盘，其中所述多个吸取分段被布置在所述顶表面上使得起源于所述吸取分段中的一个内的一点的并且环绕到所述顶表面的边缘的虚拟螺旋形路径在所述顶表面上行进，其中所述路径进入和/或离开所述吸取分段中的任一个一次并且仅一次。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的卡盘，

其中每个吸取分段被连接到主真空分配装置，所述主真空分配装置被布置在所述卡盘的底表面处并且被配置成向所述吸取分段中的每个供应真空；并且

其中向可能除了一个吸取分段之外的所述吸取分段中的每个的供应是可由阀控制的。

7.根据权利要求6所述的卡盘，就从属于权利要求5而言，

其中：

主真空供应装置包括主真空通道，其具有配置成被供应有真空的入口；

所述吸取分段中的每个由具有到所述主真空通道的接合部的侧导管而连接到所述主真空通道；

在任意两个邻近的接合部之间，阀被布置在所述主真空通道内部使得所述主真空通道呈现由所述阀分开的多个区段；

所述侧导管被布置为使得所述主真空通道的任意两个邻近的区段被连接到相邻的吸取分段。

8.根据权利要求7所述的卡盘，

其中所述阀中的每个是止回阀；

其中所述止回阀中的每个被配置成，使得如果在朝向所述主真空通道的入口的方向中与所述止回阀紧挨着的区段中的低压的绝对值等于或大于预定值则自动地打开。

9.根据权利要求8所述的卡盘，其中所述阀中的每个是球形止回阀、隔膜止回阀、摆动止回阀、倾斜盘止回阀、停止止回阀、提升止回阀、直列单向阀或鸭嘴阀中的一个。