[发明专利]粒子射线治疗装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种在用于癌症治疗等的粒子射线治疗装置中特别使用旋转吊架来进行多区域照射的粒子射线治疗装置。

背景技术

粒子射线治疗通过对成为治疗对象的患部照射带电粒子的射束(粒子射线)使患部组织受损，由此来进行治疗。此时，由于需要在不对周边组织造成破坏的情况下向患部组织提供足够的剂量，因此，要求恰当地对照射剂量、照射范围(照射野)进行控制。为此，需要确保粒子射线的轨道准确，但由于从射线源到照射装置的输送路径中存在设备的设置误差、磁场强度等误差，因此，粒子射线的轨道有可能会偏离设计轨道。

另一方面，在粒子射线治疗中，为了减少对重要内脏器官辐射的剂量，同时又能确保对患部辐射的剂量从而保证治疗效果，有时会采用称为多区域照射的照射法，其中，该多区域照射中，改变射束的照射方向来对患部进行照射。作为用于多区域照射的装置，可使用以包含患部(等中心)在内的转轴为中心，使照射装置本身旋转的旋转吊架。若为使用旋转吊架的粒子射线治疗装置，则为了避免相对于等中心的误差的状态因旋转吊架的旋转角度(照射角度)而发生变动，尤其需要保证旋转吊架入口处轨道的准确性。

因此，例如专利文献1所记载的那样，可考虑在输送路径中设置轨道修正装置，使用两个射束位置传感器来修整粒子射线的轨道位置和倾斜度。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开2003－282300号公报(段落0036、图1)

专利文献2：美国专利公报4,917,344(第3栏，第20-61行，图1a、1b)

发明内容

发明所要解决的技术问题

然后，在上述那样的轨道修正装置中，由于其精度取决于两个射束位置传感器间的距离，因此，需要在输送路径中形成规定距离的直线部。例如，为了使误差在0.1mm以内地向照射装置提供按照正确的轨道通过旋转吊架入口的粒子射线，需要设置长达数米的直线部。并且，若考虑到对于照射角度的依赖性，则需要将直线部设置在旋转吊架的转轴上，从而不仅要增大设置空间，而且设置灵活度也受到限制，设备变得过大。

本发明是为解决上述问题而完成的，其目的在于获得一种粒子射线治疗装置，能够抑制设备变得过大，并能够准确地提供适当的剂量。

解决技术问题所采用的技术方案

本发明的粒子射线治疗装置是具有旋转吊架的粒子射线治疗装置，该旋转吊架构成为使得照射装置绕着转轴的周围旋转，由此来向被照射体照射粒子射线，所述粒子射线治疗装置的特征在于，所述旋转吊架设置有偏转电磁铁，该偏转电磁铁具有使沿着所述转轴提供来的粒子射线朝径向偏转并导入所述照射装置的偏转路径、以及与所述偏转路径自由切换并使所述提供的粒子射线直线前进的直进路径，所述粒子射线治疗装置还包括轨道修正装置，该轨道修正装置具有在所述转轴方向的两侧夹着所述偏转电磁铁而配置的两个位置传感器。

发明效果

根据本发明的粒子射线治疗装置，由于使用旋转吊架内的空间来确保直线距离，因此可获得能够抑制设置空间且能准确地提供适当剂量的粒子射线治疗装置。

附图说明

图1是用于说明本发明的实施方式1所涉及的粒子射线治疗装置的结构的旋转吊架附近部分的图。

图2是用于说明本发明的实施方式1所涉及的粒子射线治疗装置的整体结构的图。

图3是用于说明本发明的实施方式2所涉及的粒子射线治疗装置的结构的旋转吊架附近部分的图。

图4是用于说明本发明的实施方式3所涉及的粒子射线治疗装置的结构的旋转吊架附近部分的图。

图5是用于说明本发明的实施方式4所涉及的粒子射线治疗装置的结构的旋转吊架附近部分的图。

图6是用于说明本发明的实施方式5所涉及的粒子射线治疗装置的结构的旋转吊架附近部分的图。

图7是用于说明本发明的实施方式6所涉及的粒子射线治疗装置的结构的示出旋转吊架的剖面形状的示意图。

图8是用于对现有的粒子射线治疗装置与本发明的实施方式7所涉及的粒子射线治疗装置的大小进行比较的图。

图9是用于对现有的粒子射线治疗装置与本发明的实施方式8所涉及的粒子射线治疗装置的大小进行比较的图。

具体实施方式

实施方式1