[发明专利]粒子射线治疗装置

权利要求书

1.一种粒子射线治疗装置，该粒子射线治疗装置具有旋转吊架，该旋转吊架构成为使照射装置绕着转轴的周围旋转，由此向被照射体照射粒子射线，所述粒子射线治疗装置的特征在于，

所述旋转吊架设置有偏转电磁铁，该偏转电磁铁具有使沿着所述转轴提供而来的粒子射线朝径向偏转从而导入所述照射装置的偏转路径，以及与所述偏转路径自由切换并使提供的所述粒子射线直线前进的直进路径，

所述粒子射线治疗装置还包括轨道修正装置，该轨道修正装置具有在所述转轴方向的两侧夹着所述偏转电磁铁而配置的两个射束位置传感器，

所述轨道修正装置具有两组转向电磁铁，该两组转向电磁铁由配置于所述偏转电磁铁的上游侧的、用于修正粒子射线的轨道的位置的转向电磁铁和用于修正粒子射线的轨道的倾斜度的转向电磁铁构成。

2.如权利要求1所述的粒子射线治疗装置，其特征在于，

所述两组转向电磁铁与所述两个射束位置传感器一起排列配置在所述转轴的延长线上。

3.如权利要求1所述的粒子射线治疗装置，其特征在于，

所述两组转向电磁铁配置在所述两个射束位置传感器的上游侧。

4.如权利要求2所述的粒子射线治疗装置，其特征在于，

所述两组转向电磁铁配置在所述两个射束位置传感器的上游侧。

5.如权利要求1所述的粒子射线治疗装置，其特征在于，

所述两组转向电磁铁被配置成夹着所述两个射束位置传感器中设置于上游侧的一个射束位置传感器。

6.如权利要求2所述的粒子射线治疗装置，其特征在于，

所述两组转向电磁铁被配置成夹着所述两个射束位置传感器中设置于上游侧的一个射束位置传感器。

7.如权利要求1至6的任一项所述的粒子射线治疗装置，其特征在于，

所述两个射束位置传感器中配置于下游侧的一个射束位置传感器设置在用于对所述被照射体照射粒子射线的照射室内。

8.如权利要求7所述的粒子射线治疗装置，其特征在于，

在所述两个射束位置传感器中配置于下游侧的一个射束位置传感器与所述偏转电磁铁之间，设置有能自由拆卸的管道，该管道的内部能够成为真空或规定的气体气氛。

9.如权利要求8所述的粒子射线治疗装置，其特征在于，

所述旋转吊架设置有收纳所述管道的收纳部。