[发明专利]亲水化的有机硅颗粒及制造方法

说明书

通过等离子体处理将有机硅颗粒的表面亲水化。经亲水化的有机硅颗粒容易分散于水性材料中而无需分散剂(典型地，表面活性剂)。在外部施加至皮肤的水性化妆品如皮肤护理化妆品、造型化妆品、止汗化妆品和UV护理化妆品的应用中，例如因为无需表面活性剂即可进行配制，所以可以配制无皮肤刺激顾虑的产品。

技术领域

本发明涉及具有亲水化的表面的有机硅颗粒和用于制备所述有机硅颗粒的方法。

背景技术

现有技术中的一般实践是使无机颗粒经受等离子体处理，以使得它们的表面更亲水和可润湿，从而可以容易地将所述颗粒分散于水性溶剂中或者在分散于有机溶剂和树脂方面得以改进。JP-A H06-000635(专利文献1)描述了通过常压等离子体处理使氧化铝颗粒表面亲水化的示例性方法。JP-A H06-134296(专利文献2)描述了通过常压等离子体处理使二氧化钛或氧化铝颗粒表面亲水化的示例性方法。JP-A H06-285365(专利文献3)描述了通过常压等离子体处理使二氧化钛颗粒表面亲水化的示例性方法。JP-A 2010-275334(专利文献4)公开了二氧化硅颗粒的等离子体处理，以改进它们在环氧树脂中的分散。

同时，出于赋予使用时的柔滑、光滑和愉悦感觉、易于铺展和柔焦效果(softfocus effect)的目的，从过去以来将有机硅颗粒用于化妆品中。然而所述有机硅的问题在于，它是如此地拒水，以至于可能难于将其分散于水性化妆品组合物中。另外使用表面活性剂或颗粒的表面处理使得可以将有机硅颗粒分散于水中。然而，因为怀疑表面活性剂刺激皮肤，所以有时避免在外部施加至皮肤的那些化妆品如皮肤护理化妆品、造型化妆品、止汗化妆品和UV护理化妆品中使用所述表面活性剂。

发明简述

本发明解决的问题

本发明的目的在于提供亲水化的有机硅颗粒，其可以被容易地分散于水性材料中而无需分散剂(典型地，表面活性剂)和提供用于制备所述亲水化的有机硅颗粒的方法。

解决所述问题的手段

发明人已发现，通过等离子体处理有机硅颗粒以使它们的表面亲水化，可获得亲水性有机硅颗粒，所述有机硅颗粒可以被容易地分散于水中而无需分散剂(典型地，表面活性剂)。

在一个方面，本发明提供了有机硅颗粒，其表面通过等离子体处理而亲水化。本发明还提供了有机硅颗粒的水分散体，其中有机硅颗粒的表面通过等离子体处理而亲水化，并且所述亲水化的有机硅颗粒均匀地分散于水中并且当水挥发时由于亲水特性消失而变得疏水。在优选的实施方式中，待亲水化的疏水的有机硅颗粒是聚有机倍半硅氧烷颗粒或表面涂覆有聚有机倍半硅氧烷的硅橡胶颗粒。优选的是通过等离子体处理使这些颗粒亲水化。

使有机硅颗粒表面亲水化的等离子体处理优选为通过在颗粒表面产生亲水性基团，且特别是通过在真空中用含氧原子的气体产生等离子体，或者在大气压下通过由稀有气体原子的等离子体产生自由基并用水或水蒸汽处理所述自由基。或者，可以通过在真空中使用含烃气体混合物的等离子体处理，即等离子体聚合在有机硅颗粒表面上产生亲水性基团。

在另一方面，本发明提供了用于制备亲水性有机硅颗粒的方法，所述方法包括等离子体处理疏水的有机硅颗粒的步骤。在一个优选的实施方式中，可以通过在真空室中使用含氧气体使疏水的有机硅颗粒的表面经受低压氧等离子体处理而将其亲水化，所述含氧气体选自氧气、水蒸汽和过氧化氢或含氧气体与稀有气体的气体混合物。更优选地，将所述疏水的有机硅颗粒进料至所述室中，将所述室抽吸至等于或小于5Pa的压力，将含氧气体或含氧气体与稀有气体的混合物进料至所述室中，并在30至100Pa的压力下进行低压氧等离子体处理。

在另一优选的实施方式中，通过使用稀有气体或稀有气体与含氧气体的混合物使疏水的有机硅颗粒的表面经受常压等离子体处理而使其亲水化，所述含氧气体选自氧气、水蒸汽和过氧化氢。