[发明专利]用于发光二极管芯片的系统和方法在审

专利信息
申请号: 201380068597.7 申请日: 2013-11-26
公开(公告)号: CN104885224A 公开(公告)日: 2015-09-02
发明(设计)人: B.科罗丁 申请(专利权)人: 通用电气照明解决方案有限责任公司
主分类号: H01L27/15 分类号: H01L27/15;H01L31/173
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 叶晓勇;姜甜
地址: 美国俄*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 用于 发光二极管 芯片 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种发光二极管(LED)芯片,所述LED芯片包括:

衬底;以及

由在所述衬底上生长的异质结构而形成的台面结构,所述台面结构包括:

LED台面部分;以及

光电二极管(PD)台面部分,其中沟道将所述LED台面部分与所述PD台面部分分离。

2.根据权利要求1所述的LED芯片,其中所述异质结构包括n型层、p型层;以及

在所述n型层的至少部分与所述p型层的至少部分之间的有源层。

3.根据权利要求2所述的LED芯片,其中沟道将所述LED台面部分的所述有源层与所述PD台面部分的所述有源层分离。

4.根据权利要求1所述的LED芯片,所述LED芯片包括位于所述LED台面部分上的第一金属触点以及位于所述PD台面部分上的第二金属触点。

5.根据权利要求4所述的LED芯片,其中所述第二金属触点为不透明金属触点。

6.根据权利要求4所述的LED芯片,所述LED芯片包括位于所述ELD芯片上的第三金属触点。

7.根据权利要求6所述的LED芯片,其中所述第一金属触点与所述第二金属触点为阳极,并且所述第三金属触点为共阴极。

8.根据权利要求6所述的LED芯片,其中所述第一金属触点与所述第二金属触点为阴极,并且所述第三金属触点为共阳极。

9.根据权利要求1所述的LED芯片,其中所述LED台面部分配置用于通过所述沟道将光能发射至所述PD台面部分。

10.根据权利要求9所述的LED芯片,其中所述PD台面部分配置用于吸收来自所述LED台面部分的光能并产生光电流。

11.根据权利要求1所述的LED,其中所述PD台面部分包括金属触点,

其中所述金属触点覆盖所述PD台面部分的顶部和外表面。

12.一种发光二极管(LED)系统,所述LED系统包括:

第一LED器件,所述第一LED器件包括:

LED芯片,所述LED芯片包括:

衬底;以及

由在所述衬底上生长的异质结构而形成的台面结构,所述台面结构包括:

LED台面部分;以及

光电二极管(PD)台面部分,其中沟道将所述LED台面部分与所述PD台面部分分离;以及

控制单元,所述控制单元配置用于(a)提供通过所述LED台面部分的第一电流,以及(b)测量所述PD台面部分产生的光电流。

13.根据权利要求12所述的LED系统,其中所述PD台面部分产生的所述光电流大体上与在第一电流经过所述LED台面部分时由所述第一LED台面部分发射的光能成比例。

14.根据权利要求13所述的LED系统,其中所述控制单元配置用于根据所述PD台面部分产生的所述光电流来确定通过所述LED台面部分的所述第一电流。

15.根据权利要求13所述的LED系统,所述LED系统进一步包括:

至少一个辅助LED器件;

其中所述控制单元配置用于根据所述第一LED器件的所述PD台面部分产生的所述光电流来提供通过所述辅助LED器件的第二电流。

16.一种形成发光二极管(LED)芯片的方法,所述方法包括:

使异质结构在衬底上生长;以及

对所述异质结构施加蚀刻工艺以形成包括LED台面部分和光电二极管(PD)台面部分的台面结构;

其中施加蚀刻工艺包括形成将所述LED台面部分与所述PD台面部分分离的沟道。

17.根据权利要求16所述的方法,所述使异质结构生长包括使n型层、p型层和有源层生长。

18.根据权利要求17所述的方法,其中施加蚀刻工艺包括形成所述沟道,以便将所述LED台面部分的所述有源层与所述PD台面部分的所述有源层分离。

19.根据权利要求18所述的方法,所述方法进一步包括提供位于所述PD台面部分上的金属触点,其中所述金属触点覆盖所述PD台面部分的顶部和外表面。

20.根据权利要求16所述的方法,所述方法进一步包括提供位于所述LED台面部分上的第一金属触点、位于所述PD台面部分上的第二金属触点以及位于所述LED芯片上的第三金属触点。

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