[发明专利]感光性树脂组合物、硬化膜的制造方法、硬化膜、有机EL显示装置及液晶显示装置

说明书

本发明提供一种硬化感光性树脂组合物、硬化膜的制造方法、硬化膜、有机EL显示装置及液晶显示装置，硬化感光性树脂组合物，在显影时以及被制成硬化膜时的状态下对各种基板的密接性优异，且耐化学品性也优异。本发明的感光性树脂组合物含有：(A)包含(al)具有酸基的重复单元及(a2)具有交联性基的重复单元的聚合物、(B)醌二叠氮化合物、以及(C)在1分子内具有包含配位原子的结构及硫脲结构的化合物。

技术领域

本发明涉及一种感光性树脂组合物(以下有时简称为“感光性树脂组合物”或者“本发明的组合物”)。另外，本发明涉及一种使用上述感光性树脂组合物的硬化膜的制造方法、将感光性组合物硬化而成的硬化膜、使用上述硬化膜的各种图像显示装置。

更详细而言，本发明涉及一种适合于形成液晶显示装置、有机电致发光(electroluminescence，EL)显示装置、集成电路元件、固体摄影元件等电子零件的平坦化膜、保护膜或层间绝缘膜的感光性树脂组合物以及使用该组合物的硬化膜的制造方法。

背景技术

在有机EL显示装置或液晶显示装置等中设置着形成有图案的层间绝缘膜。为了形成该层间绝缘膜，就用于获得所需图案形状的工序数少，而且获得充分的平坦性等而言，广泛使用感光性树脂组合物(例如专利文献1～专利文献3)。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开平5-165214号公报

[专利文献2]日本专利特开2008-256974号公报

[专利文献3]日本专利特开平8-62847号公报

发明内容

发明要解决的课题

构成层间绝缘膜的感光性树脂组合物的重要特性可列举与基板的密接性。近年来，随着显示装置高性能化、高精细化，而变得难以进行微细的图案加工，还要求提高硬化后的层间绝缘膜材料的密接性。

尤其，配线基板由于基板自身包含多种材料，故而形成于其表面的层间绝缘膜材料还制定对多种基板的密接性。

另外，上述层间绝缘膜由于会暴露于在层间绝缘膜形成后的透明电极膜的图案形成时所使用的抗蚀剂的剥离液、或在液晶取向膜形成时所使用的N-甲基吡咯烷酮(N-methylpyrrolidone，NMP)中，故而需要具有对于这些层间绝缘膜中所使用的一般化学品的充分耐性。

此处，本申请发明人对现有技术进行了积极研究，结果可知，例如在专利文献3中，虽揭示了通过在感光性组合物中调配1-环己基-3-(2-吗啉基乙基)-2-硫脲，利用盐酸系蚀刻剂进行的蚀刻中的密接性得到改良，但难以使在显影时以及其被制成硬化膜时的状态下的对各种基板的密接性并存。另外，专利文献3中所揭示的感光性组合物由于对剥离液或NMP等化学品的耐性(耐化学品性)不高，故而容易产生液晶显示装置中的显示不良，因此谋求改善。

本发明是为了解决上述课题而成，目的在于提供一种在显影时以及被制成硬化膜时的状态下对各种基板的密接性优异、且耐化学品性也优异的硬化感光性树脂组合物。进而，本发明的目的在于提供使用此种感光性树脂组合物的硬化膜的制造方法、硬化膜、有机EL显示装置以及液晶显示装置。

解决问题的技术手段

基于上述状况，本申请发明人进行积极研究，结果发现，通过使感光性树脂组合物中含有：包含具有酸基的重复单元及具有交联性基的重复单元的聚合物以及在1分子内具有包含配位原子的结构及硫脲结构的化合物，不仅感光性树脂组合物的显影时以及将感光性树脂组合物制成硬化膜时的状态下对各种基板的密接性提高，而且将感光性树脂组合物用于层间绝缘膜用途的情况下的耐化学品性也提高，从而完成本发明。