[发明专利]包括中间层的物品以及形成的方法有效

专利信息
申请号: 201380066647.8 申请日: 2013-03-13
公开(公告)号: CN105009211B 公开(公告)日: 2019-11-19
发明(设计)人: P·G·皮彻;J·L·布兰德;E·F·雷吉达;R·M·富勒 申请(专利权)人: 希捷科技有限公司
主分类号: G11B5/31 分类号: G11B5/31
代理公司: 31100 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 姬利永<国际申请>=PCT/US2013
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 包括 中间层 物品 以及 形成 方法
【说明书】:

这些物品包括磁结构;中间层,该中间层被置于磁结构上,该中间层具有从约到约的厚度,该中间层包括:底部界面层,该底部界面层毗邻磁结构而定位,该底部界面层包括接合至磁结构的原子、化合物或两者的金属的原子;夹层,该夹层被置于底部界面层上,该夹层包括金属的氧化物;顶部界面层,该顶部界面层毗邻夹层而定位,该顶部界面层包括接合至相邻的覆盖层的原子或化合物的金属的原子、金属的氧化物或其某种组合;以及覆盖层,该覆盖层被置于中间层的顶部界面层上。

背景

各种物品常常可包括不同的组件层。邻近于彼此的组件层可基于在这些层未很好地粘附的情况下的物品的结构完整性、基于一个层的材料扩散到另一个中、基于被用于形成一个或其它相邻层的制造方法或其任意组合而引起关注。由于这些以及其它问题,仍然需要设计(engineer)居间层以解决可能存在于多层或多部件物品中的问题。

发明内容

本文中公开的是物品,这些物品包括磁结构;中间层,该中间层被置于磁结构上,该中间层具有从约到约的厚度,该中间层包括:底部界面层,该底部界面层毗邻磁结构而定位,该底部界面层包括接合至磁结构的原子、化合物或两者的金属的原子;夹层,该夹层被置于底部界面层上,该夹层包括金属的氧化物;顶部界面层,该顶部界面层毗邻夹层而定位,该顶部界面层包括接合至相邻的覆盖层的原子或化合物的金属的原子、金属的氧化物或其某种组合;以及覆盖层,该覆盖层被置于中间层的顶部界面层上。

还公开的是形成物品的方法,这些方法包括下列步骤:获得磁结构;在磁结构的至少一部分上形成金属层,该金属层具有从约单层到约的厚度;氧化金属层的至少一部分;以及形成覆盖层。

本文中还公开的是形成物品的方法,这些方法包括下列步骤:获得磁结构;在所述磁结构上形成金属层;通过形成金属原子、氧化所述金属原子并在所述金属层上沉积所述经氧化的金属原子以形成金属氧化物层来在所述金属层上形成金属氧化物层。

通过阅读下面的详细描述,这些以及各种其它的特征和优点将会显而易见。

附图说明

图1是本文中所公开的物品的横截面图。

图2是被描述为完全变形的(完全的)、部分变形的(部分的)、有角变形(角)或没有变形(无)的桩的临界尺寸扫描电子显微镜(CDSEM)图像。

图3A、3B、3C和3D示出了在退火之前和之后(在300C/30分钟/空气)的四个代表性的比较的示例的CDSEM图像。

图4A、4B、4C和4D示出了在退火之前和之后(在300C/30分钟/空气之后)的示例1的四个代表性的复制的CDSEM图像。

图5A、5B、5C和5D示出了在退火之前和之后(在300C/30分钟/空气之后)的示例3的四个代表性的复制的CDSEM图像。

这些附图不一定按比例绘制。附图中使用的相同数字表示相同部件。然而,将理解在给定附图中使用数字来指代部件不旨在限制用另一附图中同一数字标记的部件。

具体实施方式

在以下描述中,参考形成本说明书一部分的一组附图,其中通过解说示出了若干具体实施例。应当理解的是,可构想和作出其它实施例而不背离本公开内容的范围或精神。因此,以下详细描述不应按照限制的意义来理解。

通过术语“约(about)”,在说明书和权利要求中使用的表示部件大小、量以及物理性质的所有数字应被理解为在任何情况下被修改,除非另外指明。因此,除非相反地指明,否则在上述说明书和所附权利要求中陈述的数值参数是近似值,这些近似值可根据利用本文中公开的示教的本领域技术人员所寻求的期望性质而变化。

通过端点对数值范围的陈述包括包含在该范围内的所有数值(例如1到5包括1、1.5、2、2.75、3、3.80、4以及5)以及该范围内的任何范围。在本文中用于特定性质所叙述的所有数字还可与用于该特定性质的所有其它数字一起使用以形成范围。

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