[发明专利]用于光刻设备的衬底支撑件和光刻设备

权利要求书

1.一种衬底支撑件，所述衬底支撑件用于将具有在EUV范围内的波长或更小波长的辐射束投影到衬底的目标部分上的类型的设备，所述衬底支撑件包括：

衬底台，构造成保持衬底；

支撑块，配置成支撑所述衬底台；

至少一个传感器单元；和

盖板，被设置成围绕所述衬底台和所述至少一个传感器单元，所述盖板定位和配置成导致对于在所述衬底台上的气流的阻力增大。

2.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中所述盖板的顶表面、所述至少一个传感器单元的顶表面和在被安装在所述衬底台上时的衬底的顶表面都大体处于同一高度水平。

3.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中所述至少一个传感器单元中的一个或更多个由所述支撑块支撑。

4.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中所述至少一个传感器单元中的一个或更多个安装在所述盖板内。

5.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中所述盖板包括在其顶表面上用于衬底台和所述至少一个传感器单元的开口。

6.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中所述盖板包括具有围绕所述至少一个传感器单元的升高的或台阶状的轮廓的边缘。

7.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中所述至少一个传感器单元包括定位传感器单元、对准传感器单元、校准传感器单元、温度传感器单元、压力传感器单元、热通量传感器单元和/或污染传感器单元中的一个或更多个。

8.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中所述盖板与所述支撑块是分离的并且由所述支撑块支撑。

9.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中所述盖板和支撑块包括一体单元。

10.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中所述盖板包括调节元件。

11.根据权利要求10所述的衬底支撑件，其中所述调节元件包括用于承载热交换流体的一个或更多的导管。

12.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中所述盖板包括配置成建立在所述盖板正上方的区域与在所述盖板内或下面的一个或更多的导管之间的气流的装置。

13.根据权利要求12所述的衬底支撑件，其中所述气流能够操作以将气体吹送通过在所述盖板和安装在所述衬底台上的衬底之间的间隙或通过在所述盖板和所述至少一个传感器单元之间的间隙，以用作缓冲件。

14.根据权利要求12所述的衬底支撑件，其中所述气流能够操作以将气体从所述盖板正上方的区域、经由在所述盖板和安装在所述衬底台上的衬底之间的间隙和/或在所述盖板和所述至少一个传感器单元之间的间隙抽取到所述一个或更多的导管中。

15.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中所述盖板的顶表面包括表面微结构。

16.根据权利要求15所述的衬底支撑件，其中所述表面微结构包括带沟槽的表面。

17.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中所述盖板的顶表面包括一个或更多的宏观尺寸的结构。

18.根据权利要求1所述的衬底支撑件，还包括：冷却元件，位于所述衬底支撑件的上方且能够操作以将直接的负热负载赋予由所述衬底支撑件支撑的衬底上。

19.根据权利要求18所述的衬底支撑件，其中所述冷却元件被定位用于至少部分地限制在所述冷却元件和衬底表面之间的气体，所述气体用作从衬底至冷却元件的热传递的介质。

20.根据权利要求18所述的衬底支撑件，其中所述冷却元件包括硅盘。

21.根据权利要求18所述的衬底支撑件，包括一个或更多的可切换的加热源，所述加热源能够操作以提供在由所述衬底支撑件所支撑的衬底上的局部的可切换的热负载。

22.根据权利要求21所述的衬底支撑件，其中所述加热源位于所述冷却元件的上方，使得由所述加热源发射的辐射透射通过所述冷却元件。

23.根据权利要求21所述的衬底支撑件，其中所述加热源包括发光二极管器件，所述发光二极管器件能够操作以发射用于局部加热所述衬底的束。