[发明专利]具有挡帘组件的离子源及离子植入机有效

专利信息
申请号: 201380063410.4 申请日: 2013-10-11
公开(公告)号: CN104885185B 公开(公告)日: 2017-02-22
发明(设计)人: 杰弗里·查尔斯·伯拉尼克;威廉·T·维弗 申请(专利权)人: 瓦里安半导体设备公司
主分类号: H01J27/04 分类号: H01J27/04;H01J27/08;H01J37/08;H01J37/317;H01J27/02;H01J37/302
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 代理人: 杨文娟,臧建明
地址: 美国麻萨诸塞*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 具有 组件 离子源 离子 植入
【说明书】:

技术领域

本公开内容有关于一种离子源,且特别是有关于一种具有挡帘组件的离子源。

背景技术

传统离子源包括具有一个提取孔(extraction aperture)的提取板。离子从提取孔提取出来而成为界定明确的离子束。提取孔可呈狭缝状以提取细长的(elongated)离子束,此离子束通常称为带状束(ribbon beam)。提取孔可呈圆形以提取大致呈圆型的离子束,此离子束通常称为点状束(spot beam)。许多离子植入应用是以离子束来处理工件的整个前表面,其中光阻(photoresist)界定工件的待处理区域。在其他未使用光阻的离子植入应用中,则期望在工件上形成二维图案工件。在一实例中,工件可为太阳能电池,例如是期望形成掺杂区域的交错(interlaced)图案的选择性发射极太阳能电池(selective emitter solar cell)。这些掺杂区域位于完成的选择性发射极太阳能电池上的接触点(contact)下方,以减少接触电阻,并从而提高选择性发射极太阳能电池的整体效率(光转换为电能的百分比)。

为了建立二维图案,可将多个离子源安装于组件线(assembly line)中,其中各离子源具有单一开口,因此可经过各离子源连续扫描工件。在一实例中,三个分开的且各自具有不同的提取孔的离子源是必要的。经过第一离子源扫描工件以建立一特定掺杂图案,随后经过第二离子源扫描以建立另一特定掺杂图案,并于最后经过第三离子源扫描以建立又另一特定掺杂图案,这些特定掺杂图案共同建立所需的二维图案。此传统布局(arrangement)的缺点是,其需要多种离子源以及各离子源所附带的费用与维护。另一个缺点是,其在组件区域中占去额外空间,而此组件区域很占地板空间。

因此,在本技术领域中需要可克服上述不足处与缺点的离子源以及离子植入机。

发明内容

根据本公开内容的一方面,提供一种离子源。离子源包括界定电弧室的电弧室外壳,电弧室外壳在固定位置上具有提取板,提取板界定多个提取孔。离子源还包括挡帘组件,挡帘组件安装于电弧室外侧的靠近提取板处。挡帘组件经配置以于一时间间隔期间阻挡所述多个提取孔中的一者的至少一部分。

根据本公开内容的另一方面,提供一种离子植入机。离子植入机包括离子源、挡帘组件以及处理室。离子源具有界定电弧室的电弧室外壳,电弧室外壳在固定位置上具有提取板,提取板界定多个提取孔。挡帘组件安装于电弧室外侧的靠近提取板处。挡帘组件经配置以于一时间间隔期间阻挡所述多个提取孔中一者的至少一部分。处理室具有工件保持器,且工件保持器经配置以保持工件并相对于自所述多个提取孔中的一者的所述至少一部分提取的离子束移动工件,以于工件上建立二维离子植入图案,且工件保持器在挡帘组件的下游并与挡帘组件间隔一距离。

附图说明

图1是符合本公开内容的离子源的立体分解图。

图2是符合本公开内容的离子植入机的剖面图。

图3是另一具有通用挡帘板的离子植入机的剖面图。

图4是图3的通用挡帘板的前视图。

图5A至图5C是另一实施例的在不同位置具有三个挡帘的离子源的前视图。

图6是可用符合本公开内容的离子植入机产生的二维离子植入图案的示意图。

具体实施方式

为使本公开内容能更容易理解,可参考所附图式,其中相似的元件使用相似的元件符号。

下文将参照所附图式更充分描述本发明并示出本发明的实施例。然而,本发明可以用许多不同形式体现而不应被理解为限于本文所阐述的实施例。相反地,提供这些实施例以使本公开内容更加完善且完整,并向所属领域的技术人员充分传达本发明的范围。在图式中,相似的符号表示相似的元件。

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