[发明专利]辊子有效
申请号: | 201380062324.1 | 申请日: | 2013-12-02 |
公开(公告)号: | CN104812936A | 公开(公告)日: | 2015-07-29 |
发明(设计)人: | 李晟焕;金东烈;黄樯渊 | 申请(专利权)人: | LG化学株式会社 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/458;H01L21/205 |
代理公司: | 北京金信知识产权代理有限公司 11225 | 代理人: | 黄威;孙丽梅 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 辊子 | ||
相关申请的交叉引用
本申请要求分别于2012年11月30日、2013年12月2日、2013年12月2日及2013年12月2日所递交的韩国专利申请第2012-0138317号、第2013-0148680号、第2013-0148681号以及第2013-0148682号的优先权和利益,它们的公开内容全部合并于此以供参考。
技术领域
本发明涉及一种辊子、一种薄膜形成装置以及一种薄膜形成方法。
背景技术
在各种领域会需要用于形成各种不同种类薄膜的技术,例如,形成保形涂层(诸如障壁层),形成电致发光显示器、液晶显示器(LCD)、电泳等中所需的柔性显示器涂层、无线射频识别(RFID)、微机电系统(MEMS)、光学涂层、柔性基板上的电子组件、柔性基板上的薄膜、电致变色、光电动势等。
[专利文献]
专利文献1:美国专利申请公开第2002-0170496号
专利文献2:美国专利第4,692,233号
发明内容
本发明是针对一种辊子、一种薄膜形成装置以及一种薄膜形成方法。
根据本发明的方案,提供了一种所谓的卷对卷设备(roll-to-roll device),例如,一种辊子,其用作薄膜形成装置的导辊,所述薄膜形成装置包括:传送单元,其包括一个或多个导辊,所述导辊安装为传送基板;以及处理区,其安装为在由所述传送单元所传送的所述基板的表面上形成薄膜。
所述辊子可具有这样的结构:所述辊子的端部的直径大于其中央部分的直径,或不存在所述中央部分,以便使其在与所述基板的传送方向垂直的方向上与所述基板的两端部相接触,但不与所述基板的其他部分相接触。
此外,具有所述结构的所述辊子可包括前驱体(precursor)供给单元,所述前驱体供给单元配置为将前驱体供给至所述基板。
根据本发明的另一方案,提供了一种薄膜形成装置,其包括作为导辊的所述辊子。例如,所述薄膜形成装置可为原子层沉积(ALD)装置,其通过ALD来形成薄膜。
根据本发明的另一方案,提供了一种在基板(例如,柔性基板,诸如塑料膜以及金属或纤维网或薄膜)上形成薄膜的方法。
附图说明
通过参考附图详细描述本发明的示范实施例,本发明的上述以及其他目的、特征和优势对于本领域技术人员来说变得明显,其中:
图1至图5是示出示范性辊子的类型的图;
图6至图10是示出示范性前驱体供给辊的类型的图;以及
图11至图17是示出示范性薄膜形成装置的构造的图。
具体实施方式
以下将参考附图来详细说明本发明的示范性实施例。虽然已连同其示范性实施例来显示及说明本发明,但是本领域的技术人员理解的是,在不背离本发明的精神或范围的情况下可进行各种不同的修改。
示范性辊子可为一种用来传送基板的辊子。
所述辊子可具有这样的结构:其至少一端部或两端部的直径大于其中央部分的直径,或仅具有两端部而不具有中央部分。在一个例子中,所述辊子可包括所述两端部及所述中央部分,并且所述两端部可安装为接触并传送所述基板,所述中央部分可不存在或其直径小于所述两端部的直径以便使得在所述基板的传送处理期间不与所述基板相接触,或者所述中央部分可不存在。
图1示出了示范性辊子。如图1所示,该辊子可包括与基板101相接触的两端部210以及不与基板101相接触的中央部分220。中央部分220的直径Rc相对于每个端部210的直径Re的比值Rc/Re没有特别限制,但是可对其进行控制以适当地传送基板101。例如,比值Rc/Re可为0.9以下、或0.5至0.9。在中央部分不存在的结构中,比值Rc/Re为0。
中央部分220的长度Lc、或者在没有中央部分220的情况下两端部210之间的距离Lc与辊子的长度L(其是在垂直于基板101的传送方向的方向上所测得)的比值Lc/L也没有特别限制,只要可在传送处理期间可以固定这些端部210以便适当地固定基板即可。例如,比值Lc/L可为0.7至0.9。
在一个例子中,为了在传送处理期间固定基板,可在辊子的每个端部上设置突出部分。由于在传送处理期间通过突出部分来固定基板,所以可防止基板脱离或滑动。
此外,辊子可仅具有两端部而没有中央部分。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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