[发明专利]产生用于投射曝光设备的可用输出光束的EUV光源

说明书

一种产生用于投射光刻的投射曝光设备(1)的EUV照明光的可用输出光束(3)的EUV光源(2)。该光源(2)具有产生EUV原始输出光束的EUV产生装置(2c)。该EUV原始输出光束为圆形偏振。为了设定可用输出光束(3)的偏振，相对于偏振方向，偏振设定装置(32；39)对原始输出光束具有线性偏振效果。这导致提供改进的输出光束以用于分辨率最优照明的EUV光源。

相关申请的交叉引用

德国专利申请DE102012219936.5的内容作为引用并入本文。

技术领域

本发明涉及一种产生用于投射光刻的投射曝光设备的EUV照明光的可用输出光束的EUV光源。另外，本发明涉及一种具有这种光源的照明系统、一种具有这种照明系统的光学系统、一种具有这种光学系统的投射曝光设备、一种用于微结构或纳米结构组件的制造方法(其中使用了这种投射曝光设备)以及借助此方法所生产的微结构或纳米结构组件。

背景技术

从专利WO 2009/121438A1中可知一种具有照明系统的投射曝光设备。从DE10358225B3中可知一种EUV光源。另外，从WO 2009/121 438A1中可得到了解EUV光源的其它参考。另外从US 2003/0043359 A1与US 5,896,438中可知EUV照明光学单元。从US 6,999,172 B2与US 2008/0192225 A1中可知用于产生偏振EUV光与用于几何偏振旋转的变型例。

发明内容

本发明之目的在于发展一种EUV光源，使得提供一种改良的输出光束用于分辨率最佳化的照明。

根据本发明，此目的通过一种具有权利要求1所指出的特征的EUV光源来实现。

根据本发明，已认识到，线性偏振EUV照明光可特别良好地适用于分辨率最佳化的照明。根据本发明的偏振设定装置以可用输出光束形式来提供这种线性偏振EUV照明光。由于初始时产生圆形偏振EUV原始输出光束，所以结果为初始时利用任意地可预先定义的偏振方向来产生线性偏振光线的选项。由于该偏振设定尽可能低，结果为具有传输损耗的偏振规格。该光源的EUV产生装置可实施为波荡器。该波荡器的偏转磁体可以可位移方式来设计。该偏转磁体的位移可用于在波荡器中产生线性偏振的可用输出光束。借助照明装置中的出瞳，该EUV光源可用于利用至少局部地线性偏振的可用输出光束来实现照明场的照明。特别地，由于使用照明光学单元的下游组件，可借助可用输出光束来获得照明场的切向偏振照明(TE偏振)。在切向偏振照明的情况下，独立于照明角度，可用输出光束的线性偏振方向永远垂直于该照明场上的入射平面而偏振。此外，该EUV光源可用于设定线性偏振的偶极照明，其中免除了由于偏振设定造成的额外传输损耗。在具有这种线性偏振的偶极照明的情况下，从两个主要方向来照明照明场，从两个主要方向，在各情况下通过线性偏振照明光来照射照明场。

EUV光源可具有基于电子束的设计，例如，其可基于自由电子激光(FEL)而设计成X射线光源。或者，该EUV光源还可实施成等离子源，其中，EUV辐射借助驱动激光器(LPP源)或借助气体放电(GDPP源)来放射。在根据权利要求2的基于电子束的EUV光源的情况下，可有效地产生圆形偏振的EUV原始输出光束。

该EUV光源能够产生波长在3nm与15nm之间的辐射。

根据权利要求3的设定装置使得可获得特定线性偏振方向的规格(尤其受控)。该可用输出光束可具有相同功率，而与偏振方向无关。

根据权利要求4的设定装置降低了对EUV光源之后的照明光学单元的用于照明该投射曝光设备的照明场的要求。如果两个EUV偏转反射镜均在该EUV光的布鲁斯特(Brewster)入射角的范围中操作，则这导致具有特别良好的偏振对比度的线性偏振EUV照明光。