[发明专利]产生用于投射曝光设备的可用输出光束的EUV光源有效

专利信息
申请号: 201380054067.7 申请日: 2013-10-22
公开(公告)号: CN104718500B 公开(公告)日: 2018-11-20
发明(设计)人: I.桑格;M.莫尔;C.亨纳克斯;J.劳夫;D.克拉默 申请(专利权)人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B27/28;G21K1/06;H05H7/04
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 邱军
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 产生 用于 投射 曝光 设备 可用 输出 光束 euv 光源
【权利要求书】:

1.产生用于投射光刻的投射曝光设备(1)的EUV照明光的可用输出光束(3)的EUV光源(2,53),

-具有产生EUV原始输出光束(30)的EUV产生装置(2c),

-其中,所述EUV原始输出光束(30)为圆形偏振(31),

-具有偏振设定装置(32;39),其关于偏振方向对所述原始输出光束(30)具有线性偏振效果,以设定所述可用输出光束(3)的偏振。

2.如权利要求1所述的EUV光源,

-具有电子束供应装置(2a),

-其中,通过所述电子束供应装置(2a)给所述EUV产生装置(2c)供应电子束(2b)。

3.如权利要求1或2所述的EUV光源,其特征在于,所述偏振设定装置(32;39)具有在所述原始输出光束(30)的布鲁斯特入射角的范围内操作的至少一个EUV偏转反射镜(33,34;40,41,42),其中,EUV偏转反射镜能够绕与所述原始输出光束(30)的入射轴线一致的轴线旋转,以用于旋转入射平面的目的。

4.如权利要求3所述的EUV光源,其特征在于,所述偏振设定装置(32;39)具有至少两个EUV偏转反射镜(33,34;40,41,42),其中,在于所述偏振设定装置(32;39)的最后一个EUV偏转反射镜(34;42)处偏转之后,所述可用输出光束(3)在与所述原始输出光束(30)相同的方向上传播。

5.如权利要求4所述的EUV光源,其特征在于,所述偏振设定装置(32;39)具有正好两个EUV偏转反射镜(33,34),其中,在于第二EUV偏转反射镜(34)处偏转之后,所述可用输出光束(3)平行于所述原始输出光束(30)传播。

6.如权利要求1或2所述的EUV光源,其特征在于,所述偏振设定装置(39)具有至少三个EUV偏转反射镜(40至42),其中,在于第三EUV偏转反射镜(42)处偏转之后,所述可用输出光束(3)沿所述原始输出光束(30)的入射轴线(38)传播。

7.如权利要求1或2所述的EUV光源,其特征在于,所述偏振设定装置(39)具有EUV偏转棱镜(43),所述EUV偏转棱镜的两个侧表面(40,42)充当反射镜表面。

8.如权利要求3所述的EUV光源,其特征在于,所述偏振设定装置(39)具有正好三个EUV偏转反射镜(40至42),其中,所有三个EUV偏转反射镜(40至42)均在所述原始输出光束(30)的布鲁斯特入射角的范围内。

9.用于投射曝光设备的照明系统,

-具有如权利要求1所述的EUV光源(2;53),

-具有照明光学单元(5),所述照明光学单元用于使用所述可用输出光束(3)照明位于掩模母版平面(15)中的照明场(14)。

10.用于投射曝光设备的照明系统,

-具有EUV光源(2;53),产生用于投射光刻的EUV照明光的可用输出光束(3),

--具有产生EUV原始输出光束(30)的EUV产生装置(2c),

--其中,所述EUV原始输出光束(30)为圆形偏振(31)的,

-具有照明光学单元(5),用于使用所述可用输出光束(3)照明位于掩模母版平面(15)中的照明场(14),

-其中,所述照明光学单元(5)具有偏振设定装置(44),所述偏振设定装置关于偏振方向对所述EUV原始输出光束(30)具有线性偏振效果,以设定所述可用输出光束(3)的偏振。

11.如权利要求1所述的EUV光源(2;53)以及作为如权利要求9或10所述的照明系统的组件的EUV光源(2;53),其特征在于,所述EUV光源(2;53)实施为具有切换单元(28),所述切换单元用于在所述EUV原始输出光束(30)的圆形偏振和线性偏振之间切换。

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