[发明专利]确定工件的脏污

权利要求书

1.一种用于确定工件(108)的脏污的装置(150)，具有：

用于在过滤膜(158)上捕获被吸收在特征液体体积中的污垢颗粒的设备(155)，通过使工件(108)经受液体来将所述污垢颗粒引入所述液体中；以及

用于分析来自已经被所述过滤膜(158)捕获的所述液体的所述污垢颗粒负载的系统(169)；

其特征在于，

所述用于分析的系统(169)具有连接到计算机单元(202)的分析装置(170)，其中所述平坦的过滤膜(158)采取可位移的带的形式，所述可位移的带能够借助于传输设备(160)而至少分段地相对于所述分析装置(170)移动，并且其中连接到所述分析装置(170)的所述计算机单元(202)用于以积聚在所述过滤膜(158)的区段(174)上的污垢颗粒(166)的类型和/或数量和/或尺寸和/或尺寸分布的形式，来确定污垢颗粒测量变量(M)。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述分析装置包括扫描仪，所述扫描仪通过利用激光束扫描来记录所述过滤膜(158)的表面的轮廓，所述过滤膜(158)带有沉积在其上的污垢颗粒(166)。

3.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述分析装置具有相机(170)，用于对所述过滤膜(158)的区段(174)进行光学记录，所述过滤膜(158)带有布置在其上的污垢颗粒(166)，并且所述计算机单元(202)借助于图像处理来确定所述污垢颗粒测量变量(M)。

4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述计算机单元(202)被设计成用于将所确定的污垢颗粒测量变量(M)与可预定的阈值(S)进行比较，并且连接到可视化设备(204)，以便在如果对于积聚在所述过滤膜(158)的所述区段(174)上的污垢颗粒来说所确定的污垢颗粒测量变量(M)超出所述可预定的阈值(S)时，显示所述过滤膜(158)的所述区段(174)的图像，所述图像具体是利用入射光照明和/或暗场照明而被记录的。

5.根据权利要求3和4中任一项所述的装置，其特征在于，第一照明装置(172)和第二照明装置(176)，所述第一照明装置(172)用于提供能够利用所述相机(170)记录的所述过滤膜(158)的所述区段(174)的透射光照明，所述第二照明装置(176)用于提供能够利用所述相机(170)记录的所述过滤膜(158)的所述区段(174)的入射光照明和/或暗场照明。

6.根据权利要求3至5中任一项所述的装置，其特征在于，为了计算积分亮度值(I)，所述计算机单元(202)以在入射光照明下利用所述相机(170)记录的带的形式，从所述过滤膜(158)的区段(174)的至少一个图像计算积分亮度值(I)，以便将这个值显示为积聚在所述区段(174)上的污垢颗粒负载的辐射度。

7.根据权利要求2至6中任一项所述的装置，其特征在于，所述过滤膜(158)的所述带是连续的过滤带，以及提供了用于在所述系统(169)中分析之后移除积聚在所述连续的过滤带上的污垢颗粒负载的设备。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的装置，其特征在于，所述过滤膜(158)是PET纺织织物。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的装置，其特征在于，用于分析已经被所述过滤膜(158)捕获的所述污垢颗粒负载的所述系统(169)包括用于通过产生磁场线来取向被布置在所述过滤膜(158)上的可磁化污垢颗粒的设备。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的装置，其特征在于，所述过滤膜(158)至少分段地涂覆有下述物质：该物质在其接触所述工件(108)所经受的液体时改变物理属性和/或化学属性，所述属性取决于所述液体的化学组成，特别是取决于所述液体的pH。