[发明专利]非易失性半导体存储装置有效

专利信息
申请号: 201380051470.4 申请日: 2013-09-27
公开(公告)号: CN104718613B 公开(公告)日: 2017-04-12
发明(设计)人: 谷口泰弘;葛西秀男;品川裕;奥山幸祐 申请(专利权)人: 株式会社佛罗迪亚
主分类号: H01L29/788 分类号: H01L29/788;H01L27/11519;H01L27/11558;G11C7/18;G11C8/16;G11C14/00;G11C16/04
代理公司: 北京海智友知识产权代理事务所(普通合伙)11455 代理人: 吴京顺,姚志远
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 非易失性 半导体 存储 装置
【权利要求书】:

1.一种非易失性半导体存储装置,包括电性绝缘的多个浮栅,和第一位线及第二位线,各所述浮栅构成了单元,其特征在于,

各所述单元包括:读取晶体管,其用于读取相应于所述浮栅内的电荷存在与否的电压;编程晶体管,其向所述浮栅注入电荷;擦除晶体管,其从所述浮栅抽出电荷;控制电容器,其调节所述浮栅的电位,所述浮栅延伸在所述读取晶体管、所述编程晶体管、所述擦除晶体管及所述控制电容器的各活性区域上,

其中,一个所述单元具有所述第一位线通过开关晶体管连接到所述读取晶体管上、所述第二位线直接连接到所述编程晶体管上的结构,

与所述一个单元成对的另一所述单元具有所述第二位线通过开关晶体管连接到所述读取晶体管上、所述第一位线直接连接到所述编程晶体管上的结构。

2.根据权利要求1所述的非易失性半导体存储装置,其特征在于,在各单元中,

所述擦除晶体管形成为N型阱或者P型阱,所述控制电容器形成为与所述擦除晶体管相同极性的、不同的N型阱或者P型阱,

所述读取晶体管、所述开关晶体管及所述编程晶体管形成为与所述擦除晶体管及所述控制电容器不同极性的P型阱或者N型阱。

3.根据权利要求1或2所述的非易失性半导体存储装置,其特征在于,包括:

擦除栅极线,在各所述浮栅上设置的所述擦除晶体管上一律地施加共用的电压;

源极线,在各所述浮栅上设置的所述读取晶体管上一律地施加共用的电压。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的非易失性半导体存储装置,其特征在于,

由所述一个单元和所述另一单元构成一位,

在各所述单元上设置的各所述开关晶体管上分别连接有栅极线,各所述开关晶体管独立地被进行导通截止控制。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的非易失性半导体存储装置,其特征在于,

所述第一位线连接到SRAM单元的一个存储节点上,所述第二位线连接到与所述SRAM单元的所述一个存储节点互补的另一存储节点上,

由所述SRAN单元和、所述一个单元及所述另一单元的两个单元构成一位。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社佛罗迪亚,未经株式会社佛罗迪亚许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380051470.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top