[发明专利]双面联锁型的布制面搭扣

权利要求书

1.一种布制面搭扣，是具有基布、在该基布的表面存在的钩状联锁元件以及在该基布的背面存在的圈状联锁元件的双面联锁型的布制面搭扣，其特征在于：

构成所述基布的底经纱和底纬纱、以及所述钩状联锁元件和所述圈状联锁元件是均由聚酯系树脂形成的纱，且所述底纬纱包含皮芯型的热熔接性聚酯系纤维，

在钩状联锁元件用纱跨3根底经纱的部位形成有所述钩状联锁元件，在圈状联锁元件用纱跨1根底经纱的部位形成有所述圈状联锁元件，

并且，所述钩状联锁元件和所述圈状联锁元件均被构成所述基布的该热熔接性纤维固定于基布。

2.根据权利要求1所述的布制面搭扣，其特征在于：

所述钩状联锁元件与所述圈状联锁元件的元件密度之比为钩状联锁元件:圈状联锁元件＝1:1.3～1:4的范围。

3.根据权利要求1或2所述的布制面搭扣，其特征在于：

所述圈状联锁元件的密度以复丝单位计处于40～100个/cm²的范围。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的布制面搭扣，其特征在于：

钩状联锁元件用纱和圈状联锁元件用纱平行于底经纱并沿底纬纱方向交替地织入于基布。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的布制面搭扣，其特征在于：

钩状联锁元件用纱和圈状联锁元件用纱以相对于底经纱4根为1根的比例织入于基布，所述钩状联锁元件用纱和所述圈状联锁元件用纱在所述基布内不交叉或不接触。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的布制面搭扣，其特征在于具有如下织入结构：

所述钩状联锁元件用纱在形成钩状联锁元件后，下沉到下一个底纬纱之下，并浮出于再下一个底纬纱之上，然后进一步下沉到又下一个底纬纱之下，并在该又下一个底纬纱和更下一个底纬纱之间浮出基布面而在跨相邻的3根底经纱的部位形成钩状联锁元件，另一方面，所述圈状联锁元件用纱在形成圈状联锁元件后，下沉到下一个底纬纱之下，并在该下一个底纬纱和再下一个底纬纱之间浮出基布面而在跨相邻的1根底经纱的部位形成圈状联锁元件。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的布制面搭扣，其特征在于：

所述钩状联锁元件用纱为单丝纱，所述圈状联锁元件用纱为复丝纱，所述钩状联锁元件用纱和所述圈状联锁元件用纱均为由聚对苯二甲酸丁二酯系树脂形成的纱。

8.根据权利要求1至6中任一项所述的布制面搭扣，其特征在于：

所述钩状联锁元件用纱是直径为0.15～0.30mm的单丝纱，且所述圈状联锁元件用纱是由5～9根丝构成的、总分特为150～350分特的复丝纱。

9.一种布制面搭扣，是具有基布、在该基布的表面存在的钩状联锁元件以及在该基布的背面存在的圈状联锁元件的双面联锁型的布制面搭扣，其特征在于：

构成所述基布的底经纱和底纬纱、以及所述钩状联锁元件和所述圈状联锁元件是均由聚酯系树脂形成的纱，且所述底纬纱包含皮芯型的热熔接性聚酯系纤维，并且，所述钩状联锁元件和所述圈状联锁元件均被构成所述基布的该热熔接性纤维固定于基布，

所述钩状联锁元件与所述圈状联锁元件的元件密度之比为钩状联锁元件:圈状联锁元件＝1:1.3～1:4的范围。