[发明专利]光固化性组合物及使用该组合物的膜的制造方法

说明书

提供一种具有高填充性并能够在通过利用光压印法生产膜时降低脱模力的光固化性组合物，和使用该光固化性组合物的膜的制造方法。光固化性组合物为包括至少下列组分(A)至组分(C)的光固化性组合物：(A)可聚合化合物；(B)光聚合引发剂；和(C)由下列通式(1)表示的表面活性剂：Rf₁‑Rc‑X (1)。

技术领域

本发明涉及光固化性组合物和使用该组合物的膜的制造方法。

背景技术

UV纳米压印法为一种在如被加工基材等基板上生产具有预定图案形状的抗蚀膜的方法，并具有例如下述包括步骤(a)至(d)的制造过程：

(a)配置抗蚀剂(光固化性组合物)的配置步骤；

(b)使光固化性组合物与具有在其表面上形成的微细凹凸图案的模具彼此相接触的模具接触步骤；

(c)用光照射光固化性组合物的光照射步骤；和

(d)在光照射步骤之后将光固化性组合物和模具彼此脱离的脱模步骤。

应当注意的是，通过包括步骤(a)至(d)的制造过程生产的抗蚀膜的图案形状通过将模具的凹凸图案转印至配制在基板上的抗蚀膜上而形成。

另外，在利用UV纳米压印法时，降低脱模步骤(步骤(d))中从抗蚀剂固化产物中脱离模具所需的力，即脱模力，已成为重要课题。这是因为下述原因。当脱模力大时，产生诸如图案缺陷发生和由于基板从平台(stage)浮起引起的定位精度(positioning accuracy)下降等问题。

另外，在脱模步骤之前要进行的模具接触步骤(步骤(b))中，光固化性组合物填充入模具与基板之间的间隙以及形成于模具的表面上的凹凸图案中。然而，在模具接触步骤中，已经发生了下列关于光固化性组合物的填充性(filling property)的问题。需要长时间填充光固化性组合物，并且由于光固化性组合物不完全填充入预定空间导致缺陷发生。

同时，要用于UV纳米压印法的光固化性组合物为，例如专利文献1中公开的由可聚合化合物、聚合引发剂和氟类表面活性剂中的至少一种形成的组合物。另外，专利文献1公开了其中烃链键合至全氟烷基链的化合物，或具有其中乙氧基链、甲氧基链或硅氧烷键合至全氟烷基链的结构的化合物用作氟类表面活性剂。

另一方面，专利文献2公开了具有全氟聚醚结构的化合物用作氟类表面活性剂。

引用列表

专利文献

专利文献1：日本专利申请特开2007-084625号公报

专利文献2：日本专利申请特开2006-80447号公报

专利文献3：国际专利WO2006/114958A

非专利文献

非专利文献1：Microelectric Engineering,Vol.82,P.60-70,2005

非专利文献2：Journal of Physical Chemistry,Vol.58,236,1954

发明内容

发明要解决的问题

如上所述，很久以来，涉及在UV纳米压印法中将氟类表面活性剂添加到光固化性组合物以降低与模具的脱模力的技术便是已知的。然而，在仅仅添加氟类表面活性剂之后，与模具的脱模力仍然是大的。