[发明专利]镀铝装置以及使用该装置制造铝膜的方法在审
申请号: | 201380046112.4 | 申请日: | 2013-06-13 |
公开(公告)号: | CN104603332A | 公开(公告)日: | 2015-05-06 |
发明(设计)人: | 西村淳一;细江晃久;奥野一树;木村弘太郎;后藤健吾;境田英彰 | 申请(专利权)人: | 住友电气工业株式会社 |
主分类号: | C25D7/06 | 分类号: | C25D7/06;C25D3/66;C25D5/48;C25D5/56;C25D7/00 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 丁业平;常海涛 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镀铝 装置 以及 使用 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及用于对基体表面电镀铝的镀铝装置,以及利用前述装置制造铝膜的方法。
背景技术
铝会在其钝化表面上形成致密氧化膜,因而表现出优异的耐腐蚀性。据此,在钢带等的表面上进行镀铝以提高其耐腐蚀性。
为了在钢带的表面上进行镀铝,首先,通过导电棍在镀槽中连续传送钢带。该钢带在浸没在位于镀槽内的镀液中的正极中行进。此时,钢带以充当负极的方式电连接,从而在正极和作为负极的钢带之间发生电解。由此,铝电沉积于钢带的表面并形成铝镀层。此时,在镀液中行进的钢带通过转向辊(turn roll)而发生方向改变,从而转为向上行进。此时,同样在钢带与正极之间进行镀覆。其上形成有铝镀层的钢带离开镀槽,通过另一导电棍,并将其从该体系中取出(已公布日本专利申请特开平05-222599(专利文献1))。
作为具有三维网状结构的金属多孔体,由铝构成的多孔体有望成为能够提高锂离子电池的正极容量的材料。目前,通过利用铝的导电性、耐腐蚀性、轻量性及其他优异特征,可将通过用诸如锂钴氧化物之类的活性材料涂布铝箔表面而制得的材料用作锂离子电池的正极。当通过使用由铝构成的多孔体来形成正极时,可增加其表面积,并且甚至可将活性材料填充至铝的内部。由此,即使当电极厚度增加时,也可避免活性材料的利用率降低。因此,单位面积的活性材料利用率增加,从而可提高正极的容量。
作为上述铝多孔体的制造方法,本申请人提出了利用铝对具有三维网状结构的树脂成形体进行电镀的方法(已公布日本专利申请特开2012-007233(专利文献2))。常规的铝熔融盐浴须加热至高温。因此,当树脂成形体的表面被铝电镀时,这种情况下的一个问题是:树脂无法抵抗高温从而会熔融。然而,根据专利文献2中所述的方法,1-乙基-3-甲基氯化咪唑鎓(EMIC)或1-丁基氯化吡啶鎓(BPC)之类的有机氯化物盐与氯化铝(AlCl3)混合所形成的铝浴在室温下为液体,从而使得能够用铝对树脂成形体进行电镀。特别地,EMIC-AlCl3体系具有良好的液体特性,因此其可用作铝镀液。
在上述镀铝钢带和具有三维网状结构的铝多孔体中,为了获得具有优异光泽性的表面并增加铝镀层的厚度,需要进一步对具有铝表面的基体进行镀铝。
然而,如上所述,铝表面上形成有氧化膜。因此,即使欲将铝电沉积至铝表面上,也无法向该表面均匀供电。因此,会出现镀覆形状呈岛状的问题。
引用列表
专利文献
专利文献1:已公布日本专利申请特开平05-222599号公报
专利文献2:已公布日本专利申请特开2012-007233号公报
发明内容
技术问题
鉴于上述问题,本发明的目的在于提供一种镀铝装置,即使在表面上形成有绝缘的或导电性较差的金属氧化膜等的基体表面上,该镀铝装置也能够很好地形成铝镀层。
解决问题的手段
本发明人为了解决上述问题进行了深入研究,结果发现有效的是:在镀槽中以电解的方式除去形成于金属表面的氧化膜,然后进行镀铝。由此完成了本发明。更具体而言,本发明具有如下构成。
(1)一种镀铝装置,其用于通过在镀槽中传送基体从而将铝电沉积至所述基体上。所述装置具有如下特征:
自上述基体的传送方向上的上游侧起,上述镀槽被分隔板依次分隔为第一电解室和第二电解室;
在设置有负极的上述第一电解室中,该负极以使上述基体充当正极的方式与上述基体电连接;并且
在设置有正极的上述第二电解室中,该正极以使上述基体充当负极的方式与上述基体电连接。
上述(1)中所述的镀铝装置在第一电解室中进行了反向电解。因此,即使在基体表面上形成有绝缘的或导电性差的金属氧化膜,也可通过电解的方式将其去除,由此在随后的第二电解室内能够很好地电沉积铝。
(2)根据(1)中所述的镀铝装置,所述装置包括位于上述第一电解室的入口的上游侧的第一供电辊,该第一供电辊向上述基体施加电位并同时传送所述基体。
上述(2)中所述的发明能够在传送基体的同时,向靠近第一电解室的基体施加电位。
(3)上述(1)或(2)中所述的镀铝装置,所述装置包括位于上述第二电解室的出口的下游侧的第二供电辊,该第二供电辊向上述基体施加电位并同时传送所述基体。
上述(3)中所述的发明能够在传送基体的同时,向靠近第二电解室的基体施加电位。
(4)上述(1)至(3)中任意一项所述的镀铝装置,其中上述镀槽容纳有主要由氯化铝构成的熔融盐浴。
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