[发明专利]中空颗粒的制备方法、中空颗粒、减反射涂层和光学元件在审

专利信息
申请号: 201380038551.0 申请日: 2013-07-12
公开(公告)号: CN104487386A 公开(公告)日: 2015-04-01
发明(设计)人: 龟野优;大金政信;奥山喜久夫 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: C01F5/28 分类号: C01F5/28
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 李英
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 中空 颗粒 制备 方法 反射 涂层 光学 元件
【权利要求书】:

1.中空颗粒的制备方法,包括:

通过将含有核颗粒的水分散体、含有镁的水溶液和含有氟的水溶液合并以形成合并的液体,并且将该合并的液体加热,从而形成各自具有核颗粒和含有氟化镁的壳的核-壳颗粒;和

将该核颗粒的至少一部分从各个核-壳颗粒中除去。

2.根据权利要求1的中空颗粒的制备方法,其中在10℃-30℃(包括两个端点)的温度下将该水分散体和该水溶液合并。

3.根据权利要求1或2的中空颗粒的制备方法,其中将合并的液体加热到50℃-80℃的温度,包括两个端点。

4.根据权利要求1-3的任一项的中空颗粒的制备方法,其中该核颗粒由乙烯基聚合物制成。

5.根据权利要求1-4的任一项的中空颗粒的制备方法,其中,通过将该核-壳颗粒加热到200℃-350℃的温度,包括两个端点,从而将该核颗粒的至少一部分除去。

6.中空颗粒,包括含有氟化镁的连续的壳。

7.根据权利要求6的中空颗粒,其中该壳含有碳。

8.根据权利要求6或7的中空颗粒,其中该中空颗粒的颗粒直径在30nm-200nm的范围内,包括两个端点。

9.根据权利要求6-8的任一项的中空颗粒,其中该壳的厚度在该中空颗粒的颗粒直径的10%-35%的范围内,包括两个端点。

10.减反射涂层,包括采用根据权利要求1-5的任一项的方法制备的中空颗粒或根据权利要求6-9的任一项的中空颗粒。

11.光学元件,包括根据权利要求10的减反射涂层。

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