[发明专利]用于灭活病毒以及其他外源性因子的方法

说明书

相关申请的交互引用

本申请要求2013年3月15日提交的美国专利申请号13/844,051和 2012年6月20日提交的美国临时专利申请号61/662,349的优先权，将所 述专利以其整体并入本文作为参考。

发明领域

本发明提供了使用高温瞬时(HTST)处理以及调整多种参数以使沉 淀物的产生和沉积减少和/或最小化的病毒灭活方法。

发明背景

病毒在药物生产工艺中是潜在的污染物，特别是在生物药物来源于哺 乳动物细胞培养物的情况下。病毒污染物的来源可以是用于细胞培养的培 养基或者产生目的生物制品的细胞系。目前在生产工艺期间防止病毒污染 生物药物的方法包括用于灭活病毒的高温瞬时(HTST)细胞培养基处理， 所述病毒可能通过原材料引入到细胞培养基中并在培养过程中扩增 (Schleh,M.等人2009.Biotechnol.Prog.25(3):854-860和Kiss,R.2011. PDA J Pharm Sci and Tech.65:715-729)。已经报道，对于HTST所需的 约85℃以上的温度是有效的病毒灭活方法，其中对于灭活细小病毒，需要 约95℃以上的温度，所述细小病毒是已记录的在细胞培养过程中存在的常 见细胞培养病毒污染，并且其抗许多化学和物理灭活剂(inactivating  agent)(Schleh等人)。

尽管在病毒的灭活中已经证实HTST处理是高度有效的，但当进行该 处理时，在多种细胞培养基中会产生沉淀或生成沉淀物。该沉淀导致残渣 在HTST系统内的表面上积累并引起设备结垢，以使其不再能将培养基加 热至完全灭活病毒污染物的目标温度。此外，该沉淀还可能使滤器结垢， 该滤器通常在HTST系统的下游使用的用于去除来自培养基的微生物如细 菌的最终处理。该滤器结垢可能导致不能完成细胞培养工艺之前的培养基 处理步骤。在一些实例中，沉淀物还可能影响细胞培养基的性能，并妨碍 来自培养的细胞系的生物药物的高效产生。为了防止沉淀，可以降低温度， 但可能会不利地影响成功的病毒灭活。此外，HTST细胞培养基处理期间 的沉淀生成可能导致在生产工艺期间频繁地清洁或维护用于HTST处理的 设备，这显著增加了工艺的成本。因此，在去除或灭活病毒污染物的HTST 处理期间存在防止沉淀生成，并且不会不利地影响该处理的效率的需求。

本文中所述的发明通过使用HTST处理，提供在细胞培养基中有效灭 活病毒污染物的方法，从而满足了这些需求，所述HTST处理调整了导致 沉淀生成减少或防止沉淀生成的工艺参数。

本文中所引用的全部参考文献，包括专利申请和出版物在此处以其整 体并入本文作为参考。

发明概述

本发明通过使用高温瞬时(HTST)处理并调整培养基中多种参数如 pH和/或钙和/或磷酸盐浓度组合，提供了用于灭活细胞培养基中的病毒污 染物和/或其他污染物的方法、工艺、系统和组合物。此外，还提供了减少 用于HTST处理的设备和滤器结垢的方法、工艺、系统和组合物。

因此，在一个方面，本发明提供了用于在细胞培养基中灭活病毒或外 源性因子(adventitious agent)，同时使所述培养基维持细胞培养适合性 的方法，所述方法包括(a)将细胞培养基进行高温瞬时(HTST)处理，和 (b)调整选自pH、钙水平和磷酸盐水平的一个或多个参数。