[发明专利]摄像装置的制造方法以及半导体装置的制造方法有效
申请号: | 201380028598.9 | 申请日: | 2013-04-04 |
公开(公告)号: | CN104380466B | 公开(公告)日: | 2017-05-24 |
发明(设计)人: | 藤森纪幸;五十岚考俊;吉田和洋 | 申请(专利权)人: | 奥林巴斯株式会社 |
主分类号: | H01L27/14 | 分类号: | H01L27/14;H01L23/12;H01L23/29;H01L23/31 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人: | 刘新宇,张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 摄像 装置 制造 方法 以及 半导体 | ||
技术领域
本发明涉及具有切断接合晶圆的工序的摄像装置的制造方法以及半导体装置的制造方法,该接合晶圆为多个摄像芯片(半导体芯片)接合于支承基板的接合晶圆。
背景技术
为了半导体装置的小型化,采用了芯片尺寸封装(CSP)技术。在CSP中,在半导体芯片上形成有到达第2主面的贯穿布线,该半导体芯片在第1主面上形成有半导体电路部,第2主面的外部连接端子与布线板相连接。
在此,在小型的摄像装置中,在形成有作为半导体电路部的受光部的摄像芯片的第1主面上接合有用于保护受光部的透明支承构件。为了一并制作多个摄像装置,采用了晶圆级芯片尺寸封装(WL-CSP)技术。在WL-CSP中,在形成有多个受光部的摄像芯片基板与透明支承基板之间借助粘接层相粘接的接合晶圆的状态下进行贯穿布线形成等的加工,之后单片化为各个摄像装置。
但是,在以往的WL-CSP中,在摄像芯片基板的摄像芯片的成品率较低的情况下,具有不合格受光部的摄像芯片也被加工为摄像装置,因此制造成本增大。另外,伴随着半导体晶圆的大口径化,加工设备也需要全部对应大口径,设备投资费用增大且制造成本增大,因此生产率降低。
另外,在日本国特开2011-243596号公报中公开了一种基于CSP法的封装元件的制造方法,在该制造方法中,利用密封树脂将安装于硅晶圆的安装面的半导体芯片密封之后,对硅晶圆自与安装面相反的面进行研磨加工等,进而单片化为各个封装元件。
即,在上述制造方法中,半导体芯片未被加工,硅晶圆被加工而成为半导体芯片的中介层。
在上述封装元件的制造方法中,对于安装有多个半导体芯片且被密封树脂密封后的面进行研磨加工等。如此一来,由于半导体芯片的粘接位置,无法厚度均匀地加工。有可能降低成品率。
发明内容
发明要解决的问题
本发明的实施方式的目的在于提供成品率较高的摄像装置的制造方法以及成品率较高的半导体装置的制造方法。
用于解决问题的方案
本发明的实施方式的摄像装置的制造方法包括:多个受光部形成于第1主面,切断在各个受光部的周围形成有电极焊盘的摄像芯片基板,制作多个摄像芯片的工序;借助透明的粘接层将摄像芯片的上述第1主面粘接于透明的支承基板,并且,借助上述粘接层将虚设芯片粘接于上述支承基板的未粘接上述摄像芯片的外周区域而制作接合晶圆的工序;利用密封构件将粘接于上述接合晶圆的上述摄像芯片以及上述虚设芯片之间填充的工序;将上述接合晶圆从第2主面侧加工而减薄厚度的工序;在上述第2主面上形成借助贯穿布线与上述电极焊盘连接的外部连接电极的工序;以及切断上述接合晶圆的工序。
另外,本发明的另一实施方式的半导体装置的制造方法包括:多个半导体电路部形成于第1主面,切断在各个半导体电路部的周围形成有电极焊盘的半导体芯片基板,制作多个半导体芯片的工序;借助粘接层将半导体芯片的上述第1主面粘接于支承基板,并且,借助上述粘接层将虚设芯片粘接于上述支承基板的未粘接上述半导体芯片的外周区域而制作接合晶圆的工序;利用密封构件将粘接于上述接合晶圆的上述半导体芯片以及上述虚设芯片之间填充的工序;将上述接合晶圆从第2主面侧加工而减薄厚度的工序;在上述第2主面上形成借助贯穿布线与上述电极焊盘连接的外部连接电极的工序;以及切断上述接合晶圆的工序。
附图说明
图1是实施方式的摄像装置的剖视图。
图2是用于说明实施方式的摄像装置的制造方法的立体图。
图3是用于说明实施方式的摄像装置的制造方法的流程图。
图4是实施方式的摄像装置的透明基板的俯视图和局部放大图。
图5是实施方式的摄像装置的摄像芯片的立体图。
图6A是用于说明实施方式的摄像装置的制造方法的剖视图。
图6B是用于说明实施方式的摄像装置的制造方法的剖视图。
图6C是用于说明实施方式的摄像装置的制造方法的剖视图。
图6D是用于说明实施方式的摄像装置的制造方法的剖视图。
图6E是用于说明实施方式的摄像装置的制造方法的剖视图。
图6F是用于说明实施方式的摄像装置的制造方法的剖视图。
图6G是用于说明实施方式的摄像装置的制造方法的剖视图。
图7A是用于说明摄像装置的制造方法的接合晶圆的俯视图。
图7B是接合晶圆的沿着图7A的VIIB-VIIB线的剖视图。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的