[发明专利]具有受控改性的石墨烯纳米带有效
| 申请号： | 201380026113.2 | 申请日： | 2013-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN104379497B | 公开（公告）日： | 2017-06-06 |
| 发明（设计）人： | R·法泽尔;P·吕菲克斯;K·米伦;J·蔡;X·冯;R·伯杰 | 申请（专利权）人： | 巴斯夫欧洲公司;瑞士材料科学技术研究所;马克思—普朗克科学促进协会公司 |
| 主分类号： | B82B3/00 | 分类号： | B82B3/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所11247 | 代理人： | 肖威,刘金辉 |
| 地址： | 德国路*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 具有 受控 改性 石墨 纳米 | ||
1.一种石墨烯纳米带，其包含含至少一种改性的重复单元RU1，其中所述改性选自杂原子替代、空位、sp3杂化、Stone-Wales缺陷、反Stone-Wales缺陷、六边形sp2杂化碳网络环尺寸改性及其任意组合，其中所有重复单元RU1包含至少一种改性。
2.根据权利要求1的石墨烯纳米带，其中重复单元RU1的一种或多种杂原子替代改性的杂原子或杂原子基团选自氮、硼、磷及其氧化物、硅、氧、硫及其氧化物、氢或其任意组合。
3.根据权利要求1的石墨烯纳米带，其中重复单元RU1衍生自至少一种芳族单体化合物，所述芳族单体化合物选自至少一种取代或未取代的多环芳族单体化合物、至少一种取代或未取代的低聚亚苯基芳族单体化合物或其任意组合。
4.根据权利要求2的石墨烯纳米带，其中重复单元RU1衍生自至少一种芳族单体化合物，所述芳族单体化合物选自至少一种取代或未取代的多环芳族单体化合物、至少一种取代或未取代的低聚亚苯基芳族单体化合物或其任意组合。
5.根据权利要求3的石墨烯纳米带，其中所述芳族单体化合物包含至少一个芳族或非芳族杂环。
6.根据权利要求4的石墨烯纳米带，其中所述芳族单体化合物包含至少一个芳族或非芳族杂环。
7.根据权利要求3的石墨烯纳米带，其中所述多环芳族单体化合物包含两个或更多个稠合芳环和至少一个包含一个或多个杂原子的稠合芳环。
8.根据权利要求4的石墨烯纳米带，其中所述多环芳族单体化合物包含两个或更多个稠合芳环和至少一个包含一个或多个杂原子的稠合芳环。
9.根据权利要求5的石墨烯纳米带，其中所述多环芳族单体化合物包含两个或更多个稠合芳环和至少一个包含一个或多个杂原子的稠合芳环。
10.根据权利要求6的石墨烯纳米带，其中所述多环芳族单体化合物包含两个或更多个稠合芳环和至少一个包含一个或多个杂原子的稠合芳环。
11.根据权利要求3-10中任一项的石墨烯纳米带，其中所述多环芳族单体化合物包含两个或更多个稠合芳环和至少一个与至少一个所述稠合芳环连接的非稠合杂环基团；和/或所述低聚亚苯基芳族单体化合物包含至少一个与亚苯基连接的杂环基团。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于巴斯夫欧洲公司;瑞士材料科学技术研究所;马克思—普朗克科学促进协会公司，未经巴斯夫欧洲公司;瑞士材料科学技术研究所;马克思—普朗克科学促进协会公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
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