[发明专利]成膜方法有效
| 申请号： | 201380023865.3 | 申请日： | 2013-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN104271796A | 公开（公告）日： | 2015-01-07 |
| 发明（设计）人： | 吉田隆;松本昌弘;谷典明;池田进;久保昌司 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C14/12;G06F3/041;B05D7/24 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 康泉;王珍仙 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种成膜方法，所述成膜方法在基板形成由含氟树脂构成的有机层，其特征在于，具有：
蒸镀膜形成工序，形成所述有机层作为蒸镀膜；
膜厚测定工序，测定所述蒸镀膜的膜厚；以及
判断工序，根据所述膜厚的测定结果，判断用于反馈的参数，以便修改所述蒸镀膜形成工序的条件。
2.根据权利要求1所述的成膜方法，其特征在于，在所述基板预先形成无机层。
3.根据权利要求2所述的成膜方法，其特征在于，在形成所述有机层之前，将等离子体暴露于所述无机层。
4.根据权利要求3所述的成膜方法，其特征在于，进一步包括：
绝缘层形成工序，通过使用水蒸气作为反应性气体的反应性溅射，在所述基板上形成所述无机层。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的成膜方法，其特征在于，进一步具有：精加工处理工序，用于实现所述蒸镀膜的稳定化和固定化。
6.根据权利要求1至4中任一项所述的成膜方法，其特征在于，在所述膜厚测定工序中，以光学方式测定所述膜厚。
7.根据权利要求5所述的成膜方法，其特征在于，在所述膜厚测定工序中，以光学方式测定所述膜厚。
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