[发明专利]偏光薄膜、图像显示装置、以及偏光薄膜的制造方法无效
申请号: | 201380020727.X | 申请日: | 2013-03-22 |
公开(公告)号: | CN104246553A | 公开(公告)日: | 2014-12-24 |
发明(设计)人: | 中西贞裕;黑木美由纪 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G02F1/1335 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 偏光 薄膜 图像 显示装置 以及 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及具有高二色性比的偏光薄膜、以及该偏光薄膜的制造方法、以及具有该偏光薄膜的图像显示装置。
背景技术
偏光薄膜是具有从偏光或自然光中使特定的直线偏光透射的功能的光学部件。
通用的偏光薄膜例如可以通过将用碘染色了的聚乙烯醇薄膜进行拉伸而得到。
另外,还已知有通过溶液流延法得到的偏光薄膜。溶液流延法是通过在基材上涂覆包含色素材料和溶剂的涂布液而在该基材上形成偏光薄膜的方法。
通过溶液涂覆法得到的偏光薄膜与上述通过拉伸聚乙烯醇薄膜得到的偏光薄膜相比,具有其厚度特别薄这样的优点。
专利文献1公开了包含特定结构的双偶氮化合物的偏光薄膜。然而,专利文献1的偏光薄膜存在透明性差、二色性比低这样的问题点。
另外,专利文献2和3公开了用作喷墨打印机的黑色墨的各种双偶氮化合物。然而这些文献没有公开使用双偶氮化合物制造偏光薄膜的技术。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特公平7-92531号公报(日本特开昭62-330213号公报)
专利文献2:日本特开昭60-243157号公报
专利文献3:日本特开平10-324815号公报
非专利文献
非专利文献1:ColouRage,2005,Vol.52,Num.2,119页~132页
发明内容
发明要解决的问题
本发明的目的在于提供一种具有高二色性比的偏光薄膜及其制造方法。
用于解决问题的方案
本发明的偏光薄膜包含用下述通式(1)表示的双偶氮化合物。
通式(1)中,Q表示取代或者未取代的苯基、或具有杂环的取代或者未取代的苯基,前述苯基的不相邻的碳原子可以被氮原子取代,R1表示烷基,R2表示氢、乙酰基、或取代或者未取代的苯甲酰基,n表示1或2,M表示抗衡离子。
本发明的优选偏光薄膜的前述Q为下述通式(2)表示的苯基。
通式(2)中,X表示碳数1~6的烷基、碳数1~6的烷氧基、碳数1~6的硫代烷基、碳数1~6的羟烷基、碳数1~6的烷基氨基、碳数1~6的羧酸酰胺基、卤代基、硝基、氰基、氨基、乙酰胺基、羧酸基、羟基、或-CONH2基,下标x表示前述X的取代数即0~5的整数,前述x为2以上时,前述X分别相同或不同。
本发明的优选的偏光薄膜的前述通式(2)的X为硝基或-CONH2基,前述通式(2)的x为1。
本发明的优选的偏光薄膜的前述通式(1)的R1为碳数1~6的烷基,前述通式(1)的R2为氢或乙酰基。
根据本发明的另一方案,提供图像显示装置。
该图像显示装置具有上述任一种偏光薄膜作为其构成部件。
根据本发明的另一方案,提供偏光薄膜的制造方法。
该偏光薄膜的制造方法具备将包含用上述通式(1)表示的双偶氮化合物和溶剂的涂布液涂覆在基材上的工序。
发明的效果
本发明的偏光薄膜包含用通式(1)表示的双偶氮化合物,因此具有高二色性比。
具有该二色性比高的偏光薄膜的图像显示装置的显示特性优异。
附图说明
图1为表示1个实施方式的偏光薄膜的局部剖面图。
图2为表示1个实施方式的偏光板的局部剖面图。
具体实施方式
以下,对本发明进行具体说明。
在本说明书中,“AAA~BBB”这样的记载表示“AAA以上并且BBB以下”的含义。另外,“取代或者未取代”是“具有取代基或不具有取代基”的含义。
[偏光薄膜]
本发明的偏光薄膜包含下述通式(1)表示的双偶氮化合物。
本发明的偏光薄膜包含选自由用下述通式(1)表示的双偶氮化合物中的1种或2种以上,根据需要,也可以包含其它的成分。
通式(1)表示的双偶氮化合物可以在溶剂中形成稳定的缔合体。由该双偶氮化合物形成的偏光薄膜具有高二色性比。
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