[发明专利]偏光薄膜、图像显示装置、以及偏光薄膜的制造方法

权利要求书

1.一种偏光薄膜，其包含下述通式(1)表示的双偶氮化合物，

Q表示取代或者未取代的苯基、或具有杂环的取代或者未取代的苯基，所述苯基的不相邻的碳原子可以被氮原子取代，R¹表示烷基，R²表示氢、乙酰基、或取代或者未取代的苯甲酰基，n表示1或2，M表示抗衡离子。

2.根据权利要求1所述的偏光薄膜，其中，所述Q为下述通式(2)表示的苯基，

X表示碳数1～6的烷基、碳数1～6的烷氧基、碳数1～6的硫代烷基、碳数1～6的羟烷基、碳数1～6的烷基氨基、碳数1～6的羧酸酰胺基、卤代基、硝基、氰基、氨基、乙酰胺基、羧酸基、羟基、或-CONH₂基，下标x表示所述X的取代数即0～5的整数，所述x为2以上时，所述X分别相同或不同。

3.根据权利要求1所述的偏光薄膜，其中，所述通式(2)的X为硝基或-CONH₂基，所述通式(2)的x为1。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的偏光薄膜，其中，所述通式(1)的R¹为碳数1～6的烷基，所述通式(1)的R²为氢或乙酰基。

5.一种图像显示装置，其具备权利要求1～4中任一项所述的偏光薄膜。

6.一种偏光薄膜的制造方法，其具有将包含下述通式(1)表示的双偶氮化合物和溶剂的涂布液涂覆在基材上的工序，

Q表示取代或者未取代的苯基、或具有杂环的取代或者未取代的苯基，所述苯基的不相邻的碳原子可以被氮原子取代，R¹表示烷基，R²表示氢、乙酰基、或取代或者未取代的苯甲酰基，n表示1或2，M表示抗衡离子。