[发明专利]具有滴水边缘构造的衬底载体在审
申请号: | 201380020056.7 | 申请日: | 2013-04-16 |
公开(公告)号: | CN104350590A | 公开(公告)日: | 2015-02-11 |
发明(设计)人: | 路茨·雷伯斯托克 | 申请(专利权)人: | 布鲁克CCS有限公司;路茨·雷伯斯托克 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/673 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王鹏鑫 |
地址: | 德国巴登*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 滴水 边缘 构造 衬底 载体 | ||
1.一种用于支撑一个或多个衬底的载体,所述载体包括:
至少一个第一结构;
至少一个第二结构,
其中,所述第二结构被固定到所述第一结构,
其中,所述第二结构部分地突出到由两个相邻衬底限定的空间,用于分离所述两个相邻衬底;
其中,所述第二结构被构造为使得液滴通过重力远离所述衬底地排出。
2.如权利要求1所述的载体,其中,所述第二结构包括路径使得所述液滴远离所述衬底地行进。
3.如权利要求1所述的载体,其中,所述第二结构包括向着所述衬底的底部并且远离所述衬底地倾斜的线或表面。
4.如权利要求1所述的载体,其中,所述第二结构在所述空间内不具有能够捕捉所述液滴的点、水平线或水平面。
5.如权利要求1所述的载体,其中,所述第一结构被构造为使得所述液滴通过重力向着所述第一结构的一端排出。
6.一种用于支撑一个或多个衬底的载体,所述载体包括:
至少一个第一结构;
至少一个第二结构,
其中,所述第二结构被固定到所述第一结构,
其中,所述第二结构部分地突出到由两个相邻衬底限定的空间,用于分离所述两个相邻衬底;
其中,所述第二结构包括远离所述衬底地倾斜的表面,使得液滴通过重力远离所述空间地排出。
7.如权利要求6所述的载体,其中,所述第二结构的突出部包括角锥或圆锥形状。
8.如权利要求7所述的载体,其中,所述角锥在最底部处包括棱。
9.如权利要求7所述的载体,其中,所述角锥或圆锥形状包括从所述第一结构向上指向的顶点。
10.如权利要求6所述的载体,其中,所述第一结构包括板。
11.如权利要求6所述的载体,其中,所述第一结构包括杆。
12.如权利要求6所述的载体,其中,所述第一结构包括用金属芯加强的塑料杆。
13.如权利要求12所述的载体,其中,所述杆的横截面包括椭圆形状。
14.如权利要求12所述的载体,其中,所述杆的横截面包括准正方形形状。
15.如权利要求6所述的载体,其中,所述第一结构包括倾斜角。
16.如权利要求6所述的载体,其中,所述第一结构包括L形状,所述L形状具有部分地覆盖所述载体的侧面的一侧和部分地覆盖所述载体的底部的一侧。
17.如权利要求6所述的载体,其中,所述第一结构被布置在所述载体的侧面处,以及所述载体还包括用于在所述载体的底部支撑所述衬底的底部结构。
18.一种方法,包括:
将一个或多个衬底供应到载体,
其中,所述载体包括结构,所述结构突出到由两个相邻衬底限定的空间,用于分离所述两个相邻衬底,
其中,所述结构包括远离所述衬底地倾斜的表面;
利用液体使所述载体和所述衬底变湿,
其中,液滴通过重力远离所述衬底地排出。
19.如权利要求18所述的方法,其中,利用液体使所述载体和所述衬底变湿的步骤包括从填充有所述液体的容器中抬起所述载体和所述衬底。
20.如权利要求18所述的方法,还包括:
对所述衬底进行干燥。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于布鲁克CCS有限公司;路茨·雷伯斯托克,未经布鲁克CCS有限公司;路茨·雷伯斯托克许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造