[发明专利]感光性树脂组合物及使用其的加工玻璃基板的制造方法、和触控面板及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及感光性树脂组合物及使用其的加工玻璃基板的制造方法。另外，本发明涉及触控面板及其制造方法。本发明的触控面板可以在液晶显示器、有机EL显示器等中使用。

背景技术

所谓金属表面光刻法(Photofabrication)是指：将感光性树脂组合物涂布在加工物表面，通过光刻技术对感光性树脂组合物的涂膜进行图案化而形成抗蚀剂，将其作为掩模，对加工物表面单独或者组合采用化学蚀刻、电解蚀刻或者以电镀为主体的电成型技术，制造各种精密部件的技术的总称。金属表面光刻法成为现在精密微细加工技术的主流。

近年来随着电子设备的小型化，半导体集成电路(LSI)的高集成化、多层化迅速发展，需要对用于将LSI搭载在电子设备上的基板的多引脚安装方法。因此，通过TAB(卷带式自动接合、Tape Automated Bonding)方式或者倒装芯片方式进行的裸芯片安装等受到关注。在这样的高密度安装中，加工的微细化推进。

例如，在有机电致发光显示器(OELD)的背盖中，为了使面板薄型化，对使用玻璃作为背盖进行了研究。该玻璃制的背盖是通过蚀刻对玻璃基板进行加工而制造的。例如，形成覆盖玻璃基板表面的一部分的、由感光性树脂组合物构成的抗蚀剂(光致抗蚀剂膜)，使用以氢氟酸为成分的蚀刻液仅对期望的区域进行蚀刻。另外，用于智能手机和移动PC的触控面板的防护玻璃的强化玻璃，在强化处理前后使用加工机等手段进行加工。

作为用于形成抗蚀剂的材料，以前使用各种感光性树脂组合物。例如，提出了一种光固化性抗蚀剂树脂组合物，其特征在于含有在侧链具有乙烯性不饱和双键的丙烯酸树脂、聚硅烷和光敏化剂(参照专利文献1)。

另外在专利文献2中，提出了一种含有(A)含不饱和基团的碱可溶性树脂、(B)具有乙烯性不饱和双键的化合物和(C)放射线自由基聚合引发剂的放射线敏感性树脂组合物以及使用了该组合物的金属图案的制造方法。虽然这里关于具有为了形成金属图案所要求的特性的放射线敏感性树脂组合物已有记载，但该组合物不用于蚀刻玻璃基板。

另一方面，在以前的触控面板中，为了保护液晶面板等而设置玻璃基板等透明防护基材。在这样的透明防护基材的背面侧(与输入面相反的面侧)，有时以装饰为目的而设置加饰部。在该情况下，触控面板传感器通常配置得从输入面看比加饰部更靠里。

加饰部例如使用以聚合物为主要成分的油墨形成。因此，通常以防止由于残留有机溶剂或者树脂粘合剂的分解而产生的低分子气体排出为目的，设置覆盖加饰部的外涂层。触控面板传感器配置在外涂层上。

关于为了保护液晶面板等而将液晶面板与透明防护基材贴合的方法，已经提出了很多的方案(例如，参照专利文献3、专利文献4)。另外，作为触控面板的制造方法，提出了如下方法：在形成上述加饰部的前阶段，在透明防护基材上形成与加饰部同型同尺寸的凹部，在该位置形成加饰部(专利文献5)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2005-164877号公报

专利文献2:日本特开2003-241372号公报

专利文献3:日本特开2007-178758号公报

专利文献4:日本特开2009-69321号公报

专利文献5:日本特开2012-73726号公报

发明内容

发明要解决的问题

在将抗蚀剂用作掩模，利用氢氟酸对玻璃基板进行蚀刻的情况下，满足蚀刻中抗蚀剂的密合性和蚀刻后从玻璃基板的剥离性两者，在以前是非常困难的。例如，专利文献1的组合物虽然对于玻璃基板的密合性良好，但由于密合性良好因此抗蚀剂的剥离性方面存在困难。

如果抗蚀剂与玻璃基板的密合性不够，则侧蚀量增加，因此有时对蚀刻加工的精度造成障碍。另外，氟化氢由于分子量小于20，因此渗透性高，容易渗透到抗蚀剂的内部。如果渗透到抗蚀剂内部的氟化氢到达玻璃基板，则有抗蚀剂剥离的可能性。

因此，本发明的主要目的在于提供一种感光性树脂组合物，在将其用于形成作为利用氢氟酸对玻璃基板进行蚀刻时的掩模的抗蚀剂时，能够形成在利用氢氟酸进行的蚀刻中保持与玻璃基板的密合，且蚀刻后能够从玻璃基板容易地剥离的抗蚀剂。

另外，在专利文献5的触控面板的制造方法的情况下得知：存在容易产生触控面板传感器断线的倾向，有时得不到实用上充分的成品率。可认为其主要原因是：由于使用了液状的抗蚀剂，因此难以通过蚀刻来深钻玻璃基板。