[发明专利]预防或修复皮肤损伤的试剂

说明书

发明背景

皮肤癌是在美国经诊断的最常见癌症，而且皮肤癌发病率持续上升。流行病学研究已经记录了大量的阳光暴露增加发展非黑素瘤皮肤癌的风险。光保护是主要的预防性健康策略。遮光剂(Sunscreen)是光保护的最重要形式之一。

一般而言，市售遮光剂中的活性成分主要是芳烃类，其从紫外辐射(UV)中吸收光线并经由自由基而降解或产生极具反应性的中间体。这样的分解产物对皮肤可能有害(Free Radical Biology & Medicine 2006, 41, 1205–12)。若干最近的研究已经提出现有遮光剂可能增加癌症风险(Int J. Environ. Res. Public Health 2007, 4(2), 126-31；FEBS Letters1993, 324, 309-13)。

目前需要预防或修复皮肤中的DNA损伤或预防或修复对皮肤的光损伤的试剂或包含所述试剂的组合物。还需要用作遮光剂的试剂或组合物。还需要通过独特作用机制起作用或在较低浓度时有效或产生无毒光产物或较少有毒光产物或较低浓度光产物的试剂。

发明概述

与市场上的现有试剂和组合物(例如遮光剂)相比，本发明的试剂和组合物具有独特作用机制。本发明的试剂吸收紫外光并为皮肤提供光保护作用。产生的光产物通过增加DNA修复酶的细胞产量而启动机体的自然防御机制。因此，本发明提供具有提供光保护和刺激修复过程的双重作用的化合物和组合物。

在一个实施方案中，本发明提供的本发明化合物是下式I化合物或其盐：

其中：

每个R¹独立地为H、(C₁-C₆)烷基、(C₃-C₇)碳环或R_aC(=O)-，和两个R⁴基团一起构成-(C₃-C₈)烷基-基团、-(C₂-C₆)烷基-Y-(C₂-C₆)烷基-基团或-(C₁-C₆)烷基-Y’-(C₁-C₆)烷基-基团；或

每个R⁴独立地为H、(C₁-C₆)烷基、(C₃-C₇)碳环或R_aC(=O)-，和两个R¹基团一起构成-(C₃-C₈)烷基-基团、-(C₂-C₆)烷基-Y-(C₂-C₆)烷基-基团或-(C₁-C₆)烷基-Y’-(C₁-C₆)烷基-基团；或

两个R⁴基团一起构成-(C₃-C₈)烷基-基团、-(C₂-C₆)烷基-Y-(C₂-C₆)烷基基团或-(C₁-C₆)烷基-Y’-(C₁-C₆)烷基-基团，和两个R¹基团一起构成-(C₃-C₈)烷基-基团、-(C₂-C₆)烷基-Y-(C₂-C₆)烷基-基团或-(C₁-C₆)烷基-Y’-(C₁-C₆)烷基-基团；

标记为“a”的虚线键不存在，标记为“b”的虚线键是双键；或所有虚线键都是单键；

R²为H、(C₁-C₆)烷基或芳基，其中芳基被一个或多个Z¹基团任选取代；