[发明专利]皮肤治疗系统和方法

权利要求书

1.一种用于治疗上皮组织层(3)的系统(1,101)，所述系统包括：

储器(7,107)，在操作中，容纳一定量的可流动介质，被布置成在所述介质被容纳在所述储器中时，使所述介质能够接触所述上皮组织层的表面(5)；

用于在至少预定的脉冲时间期间产生激光束(11)的光源(9，109)，和

用于将所述激光束聚焦到焦点(15)内并且用于将所述焦点定位在目标位置的光学系统(13,113)；

其中所述焦点的所述目标位置在所述储器内并且在所述介质被容纳在所述储器中时，在所述介质内；并且

其中所述焦点的尺寸和所产生的激光束的功率使得，在所述焦点中，所述激光束具有高于所述介质的特征阈值的功率密度，高于所述特征阈值，对于所述预定的脉冲时间，在所述介质中发生激光诱导光学击穿事件；

其特征在于，操作中，所述目标位置位于距所述上皮组织层(3)的所述表面(5)小于3mm的距离处。

2.根据权利要求1所述的系统(1,101)，其中所述光源(9，109)被配置成以在250nm至3000nm的范围内的波长发射激光束(11)。

3.根据权利要求1所述的系统(1,101)，其中，在操作中，所述目标位置位于距所述上皮组织层(3)的所述表面(5)在300微米和900微米之间的范围内的距离处。

4.根据权利要求1所述的系统(1，101)，其中所述系统被配置成使得，在使用中，所述介质中的所述激光诱导光学击穿事件引起在朝向所述上皮组织层的方向上传播的所述介质的射流(139)。

5.根据权利要求1所述的系统(1,101)，包括用于控制所述光源(9，109)和/或所述光学系统(13,113)的操作的控制器(25)，以便控制以下各项中的至少一项：

所述光源的光脉冲功率、光脉冲持续时间、以及光脉冲重复率；

所述焦点(15)相对于所述储器(7,107)的所述目标位置；以及

所述焦点(15)在使用时相对于所述上皮组织层(3)的所述表面(5)的所述目标位置。

6.根据权利要求1所述的系统(1,101)，其中所述系统包括所述储器(7，107)内的一定量的所述可流动介质。

7.根据权利要求1所述的系统(101)，其中所述系统包括供应系统(135)以向所述储器(107)提供一定量的所述介质。

8.根据权利要求7所述的系统(101)，其中所述系统包括所述供应系统内的一定量的所述可流动介质。

9.根据权利要求1所述的系统(1,101)，其中所述储器(7，107)可释放地与所述光源(9,109)和/或所述光学系统(13，113)耦接。

10.根据权利要求1所述的系统(1,101)，其中所述光源(9，109)被配置成以在800nm至1350nm的范围内的波长发射激光束(11)。

11.根据权利要求1所述的系统(1,101)，其中所述光源(9，109)被配置成以在900nm至1100nm的范围内的波长发射激光束(11)。