[发明专利]氧化物溅射靶以及光记录介质用保护膜无效

专利信息
申请号: 201380008362.9 申请日: 2013-02-06
公开(公告)号: CN104136655A 公开(公告)日: 2014-11-05
发明(设计)人: 斋藤淳;森理惠 申请(专利权)人: 三菱综合材料株式会社
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/08;C04B35/453;G11B7/257;G11B7/26
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 齐葵;周艳玲
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 氧化物 溅射 以及 记录 介质 保护膜
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种用于形成使用于光记录介质例如CD、DVD、Blu-ray Disc(注册商标:以下称作BD)等中的光记录介质用保护膜的氧化物溅射靶以及使用该氧化物溅射靶形成的光记录介质用保护膜。

本申请基于2012年2月6日在申请的专利申请第2012-023397号以及2013年1月23日在日本申请的专利申请第2013-010035号要求优先权,其内容援用于本说明书中。

背景技术

近年来,随着照片或动画的高画质化,记录于光记录介质时的数字数据增大,要求记录介质的高容量化,以往,作为高记录容量的光记录介质,已出售通过多层记录方式具有50GB容量的光记录介质BD。今后,期望该BD进一步实现高容量化,正在积极进行基于记录层的多层化的高容量化的研究。

专利文献1:日本特开2009-26378号公报(参考0058段落)

专利文献2:日本特开2005-228402号公报(参考0004段落)

专利文献3:日本特开2005-154820号公报

上述现有技术中仍有以下问题。

将有机色素使用于记录层中的类型的记录介质,与将无机物作为记录层的情况相比,由于记录层的变形较大,因此如上述专利文献1所记载,与色素相邻的保护层需要低硬度。因此,以往采用具有适当的柔韧性(柔软度)的膜ZnS-SiO2或ITO。

然而,也如上述专利文献2所记载,若ZnS-SiO2中含有硫磺(S)成分,则因该硫磺与反射膜中的金属反应而导致反射率降低,其结果,有作为光记录介质的保存性降低的不良现象。并且,在使用ITO的情况下,溅射时所产生的颗粒多,对记录介质的记录膜产生不良影响,除此之外,生产设备的清洁非常麻烦,存在记录介质的生产性变差的问题。另外,在专利文献3中,提出将具有氧化锡相的氧化锡、氧化锌及3价以上元素的氧化物作为主成分的溅射靶,但组织中的氧化锡相成为结瘤的原因,存在溅射时导致产生颗粒的问题。

发明内容

本发明是鉴于上述问题而提出的,其目的在于提供一种氧化物溅射靶以及使用该氧化物溅射靶而成膜的光记录介质用保护膜,所述氧化物溅射靶作为光记录介质中的保护膜形成用靶,能够形成保存性高、且具有柔韧性而不易破裂的膜,并且可进行直流(DC)溅射,溅射时所产生的颗粒也少。

经本发明人等对ZnO系溅射靶进行深入的研究,作为溅射靶的制造原料,对氧化锌(ZnO)添加氧化锡(SnO2)、氧化铝(Al2O3)、氧化镓(Ga2O3)及氧化铟(In2O3)中的一种以上,由此发现能够获得即使通过直流(DC)溅射也能形成膜的保存性高、具有柔韧性而不易破裂的膜的ZnO系氧化物溅射靶。另外发现,除了上述制造原料以外,添加氧化锗(GeO2)以及氧化铬(Gr2O3)中的一种以上,也能够获得可形成膜的保存性高、具有柔韧性而不易破裂的膜的ZnO系氧化物溅射靶。

于是,作为本发明的一例,制作出ZnO系氧化物溅射靶。首先,准备氧化锌(ZnO、D50=1μm)、氧化锡(SnO2、D50=10μm)以及氧化铝(Al2O3、D50=0.2μm)的各原料粉末。将以规定的比率称量的各原料粉末在球磨装置中进行16小时的湿式混合而获得的混合粉末进行干燥后造粒,并且在950℃下经3小时以350kgf/cm2的压力进行热压(HP)。将所获得的氧化物烧结体机械加工成规定形状,制作出氧化物溅射靶。

接下来,针对该制作的氧化物溅射靶进行X射线衍射(XRD)结果在图1中示出。由该结果可知,在本发明所涉及的氧化物溅射靶中,检测出属于ZnO的衍射峰值和属于作为SnO2与ZnO的复合氧化物的Zn2SnO4的衍射峰值,并确认存在有ZnO及Zn2SnO4的相。

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