[发明专利]化学研磨装置有效
| 申请号: | 201380007542.5 | 申请日: | 2013-01-28 |
| 公开(公告)号: | CN104114509A | 公开(公告)日: | 2014-10-22 |
| 发明(设计)人: | 西山荣 | 申请(专利权)人: | 株式会社NSC |
| 主分类号: | C03C15/00 | 分类号: | C03C15/00 |
| 代理公司: | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 | 代理人: | 龚敏;王刚 |
| 地址: | 日本大阪府*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 化学 研磨 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种化学研磨装置,其构成为对被连续搬送的多个玻璃基板进行化学研磨处理。
背景技术
为了使玻璃基板薄型化,通常需要使用含有氟酸的化学研磨液对玻璃基板进行化学研磨处理。作为这种化学研磨处理,可以举出分批式化学研磨和单片式化学研磨,所述分批式化学研磨将待处理玻璃基板以规定时间浸渍于放入有化学研磨液的槽中,所述单片式化学研磨将待处理玻璃基板用搬送辊依次搬送且同时喷洒化学研磨液。
在这些化学研磨的方式中,对于分批方式的研磨而言,其通过将待处理玻璃基板以规定时间浸渍于研磨液浴槽中,从而使玻璃基板薄板化至所期望的板厚,因此具有能够一次性处理大量玻璃基板这样的优点。然而,分批方式的研磨至少存在以下问题。
首先,在分批方式的研磨中,由于研磨液浴槽是向上方开放的结构,因此存在研磨液浴槽的周围形成浓氟酸气氛这样的问题。特别是,在对研磨液浴槽的研磨液进行发泡处理的情况下,具有气体状的氟酸容易向周围扩散这样的问题。在这样的氟酸气氛中操作的操作人员,如果不身着适当的保护装备进行操作,则有可能损害健康。因此,发给操作人员的保护装备的成本变高。
此外,在分批方式的研磨中,为了消除研磨液浴槽的周围的浓氟酸气氛,需要强有力的气体洗涤器等排气设备,从而增加设备成本。进而,由于氟酸气体而容易发生设备腐蚀,因此存在为实施适当防蚀处理而花费成本或者设备的更换频率变大而花费成本这样的问题。
因此,近年来,有时使用单片方式的化学研磨处理。例如,在以往技术中,存在平板显示器玻璃基板蚀刻设备,该设备构成为:利用能够附着玻璃基板的夹具来纵向支承玻璃基板,并且在搬送该夹具的同时对玻璃基板喷射化学研磨液(例如,参照专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2008-266135号公报。
发明内容
发明所要解决的课题
然而,专利文献1中所记载的技术依然不得不使用用于支承玻璃基板的夹具。因此,与上述分批式化学研磨装置同样,也存在准备夹具的费用高、而且容易在玻璃基板上产生夹具痕迹这样的问题。如果在玻璃基板上产生夹具痕迹,则会使进行高效的倒角设计变得极其困难,因此存在使倒角效率降低这样的问题。
本发明鉴于上述课题而做出的,其提供不使用夹具也能够对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式化学研磨装置。
解决课题的手段
根据本发明的化学研磨装置构成为对被连续搬送的多个玻璃基板进行化学研磨处理。该化学研磨装置具备多个搬送辊以及研磨液喷射单元。多个搬送辊构成为分别从下方支承各个玻璃基板且同时向水平方向搬送玻璃基板。研磨液喷射单元构成为对由多个搬送辊搬送的玻璃基板至少从下侧喷射研磨液。利用研磨液喷射单元的喷射优选从上下两方进行喷射,但即使在不进行从上侧喷射的情况下,也能够实施本发明。此外,研磨液喷射单元以利用研磨液使至少化学研磨处理空间内的全部的搬送辊的周面形成湿润状态的方式喷射研磨液。
在该构成中,由于来自研磨液喷射单元的研磨液被喷涂于化学研磨处理空间内的搬送辊,因此搬送辊的周面借助研磨液而始终保持湿润状态。此外,由于搬送辊的周面被喷涂的研磨液洗涤,因此淤渣等异物难以附着于搬送辊的周面,使搬送辊的周面始终保持干净状态。
因此,在玻璃的主面与搬送辊的周面相接时,玻璃基板不易产生污损。此外,与玻璃基板的搬送辊的周面接触的部分也能够借助研磨液而被适当地研磨。其结果是,即使将玻璃基板直接载置于搬送辊上进行搬送,也难以发生如下不良状况,即:产生研磨的不均匀、或者使玻璃基板的品质劣化。由此,即使不使用夹具,也能够适当地对玻璃基板依次实施化学研磨处理。
发明效果
如果利用上述本发明,则不使用夹具也能够对玻璃基板实施化学研磨处理。
附图说明
图1是表示本发明涉及的实施方式的单片式化学研磨装置的外观的图。
图2是表示单片式化学研磨装置的概略构成的图。
图3是表示单片式化学研磨装置的概略构成的图。
图4是表示第1处理室的概略构成的图。
图5是表示处理液供给机构的概略构成的图。
图6是表示曲柄机构的概略构成的图。
图7是说明在预处理室中的处理的图。
图8是表示借助搬送辊对玻璃进行支承的支承状态的图。
具体实施方式
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