[发明专利]化学研磨装置有效
| 申请号: | 201380007542.5 | 申请日: | 2013-01-28 |
| 公开(公告)号: | CN104114509A | 公开(公告)日: | 2014-10-22 |
| 发明(设计)人: | 西山荣 | 申请(专利权)人: | 株式会社NSC |
| 主分类号: | C03C15/00 | 分类号: | C03C15/00 |
| 代理公司: | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 | 代理人: | 龚敏;王刚 |
| 地址: | 日本大阪府*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 化学 研磨 装置 | ||
1.一种化学研磨装置,其构成为对被连续搬送的多个玻璃基板进行化学研磨处理,其特征在于,具备:
多个搬送辊,所述多个搬送辊构成为从下方支承玻璃基板且同时向水平方向搬送玻璃基板,
研磨液喷射单元,所述研磨液喷射单元构成为对由所述多个搬送辊搬送的玻璃基板至少从下侧喷射研磨液,
所述研磨液喷射单元以利用研磨液使至少化学研磨处理空间内的全部的搬送辊的周面形成湿润状态的方式喷射研磨液。
2.如权利要求1所述的化学研磨装置,其特征在于,所述研磨液喷射单元具备下侧研磨液喷射单元和上侧研磨液喷射单元,所述下侧研磨液喷射单元构成为对玻璃基板从下侧喷射研磨液,所述上侧研磨液喷射单元构成为对玻璃基板从上侧喷射研磨液,
所述下侧研磨液喷射单元的喷射力设定为比所述上侧研磨液喷射单元的喷射力强。
3.如权利要求1或2所述的化学研磨装置,其特征在于,进一步具备多个处理室和多个连结部,
所述多个处理室构成为分别对玻璃基板喷射相同组成的化学研磨液,所述多个连结部构成为将各处理室连结,
所述研磨液喷射单元也配置在所述多个连结部。
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