[发明专利]真空蒸镀装置

权利要求书

1.一种真空蒸镀装置，用来在被蒸镀体上蒸镀多个蒸镀材料，其特征为，

具备：

第1蒸发源，使一个蒸镀材料蒸发；

第2蒸发源，使另一蒸镀材料蒸发；

蒸镀速度控制部，分别控制上述第1蒸发源及第2蒸发源的动作；

设定蒸镀速度存储部，分别存储预先设定的上述第1蒸发源及第2蒸发源的设定蒸镀速度A1、A2；

第1膜厚计，使从上述第1蒸发源及第2蒸发源的各自蒸发出的蒸镀材料附着，根据其膜厚计量各蒸镀材料的混合蒸镀速度Y1，配设于比上述第2蒸发源更靠近上述第1蒸发源的位置上；

第2膜厚计，计量各蒸镀材料的混合蒸镀速度Y2，配设于比上述第1蒸发源更靠近上述第2蒸发源的位置上；

混合蒸镀速度存储部，分别存储上述2个膜厚计所计量的混合蒸镀速度Y1、Y2；

到达量比存储部，存储从上述第1蒸发源到达上述2个膜厚计各自的每单位时间的上述一个蒸镀材料之中第2膜厚计相对于上述第1膜厚计的一个蒸镀材料的到达量比B1，和从上述第2蒸发源到达上述2个膜厚计的每单位时间的上述另一蒸镀材料之中第1膜厚计相对于上述第2膜厚计的另一蒸镀材料的到达量比B2；

计量部，根据上述混合蒸镀速度存储部中所存储的混合蒸镀速度Y1、Y2和上述到达量比存储部中所存储的到达量比B1、B2，分别计算第1蒸发源及第2蒸发源的蒸镀速度X1、X2；

上述蒸镀速度控制部分别控制上述第1蒸发源及第2蒸发源的至少任一个，以便由上述计量部计算的第1蒸发源及第2蒸发源的蒸镀速度X1、X2的至少任一个和上述设定蒸镀速度存储部中所存储的设定蒸镀速度A1、A2的至少任一个分别一致。

2.如权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征为，

上述计量部通过从上述混合蒸镀速度存储部中所存储的混合蒸镀速度Y1、Y2，减去对上述设定蒸镀速度存储部中所存储的设定蒸镀速度A2、A1各自乘以上述到达量比存储部中所存储的到达量比B2、B1各自后得到的值，来分别计算第1及第2蒸发源的蒸镀速度X1、X2。

3.如权利要求1或2所述的真空蒸镀装置，其特征为，

将分别相加了在预先只使上述第1蒸发源工作时被上述第1膜厚计及第2膜厚计分别计量的第1蒸镀速度C1、C2和在预先只使上述第2蒸发源工作时被上述第1膜厚计及第2膜厚计分别计量的第2蒸镀速度D1、D2后的值，设为第1假想混合蒸镀速度E1、E2，

将在预先使上述第1蒸发源及第2蒸发源的双方工作时被上述第1膜厚计及第2膜厚计分别计量的值设为第2假想混合蒸镀速度F1、F2，

上述计量部将蒸镀速度修正系数K1、K2与上述混合蒸镀速度Y1、Y2分别相乘来计算修正后混合蒸镀速度Y’1、Y’2，在上述混合蒸镀速度Y1、Y2中分别替换使用该修正后混合蒸镀速度Y’1、Y’2，上述蒸镀速度修正系数K1、K2是上述第1假想混合蒸镀速度E1、E2分别除以上述第2假想混合蒸镀速度F1、F2后的值。

4.如权利要求3所述的真空蒸镀装置，其特征为，

上述到达量比存储部预先存储上述到达量比B1、B2，

在上述计量部中，预先设定上述蒸镀速度修正系数K1、K2。

5.如权利要求1至4任一项所述的真空蒸镀装置，其特征为，

还具备显示部，显示上述计量部计算出的第1蒸发源及第2蒸发源的蒸镀速度X1、X2。

6.如权利要求1至5任一项所述的真空蒸镀装置，其特征为，

上述蒸镀速度控制部分别控制上述第1蒸发源及第2蒸发源的温度。

7.如权利要求1至6任一项所述的真空蒸镀装置，其特征为，

上述蒸镀速度控制部分别控制闸门的开口度，该闸门使上述第1蒸发源及第2蒸发源各自的蒸发开口部的开口面积产生变化。

8.如权利要求1至7任一项所述的真空蒸镀装置，其特征为，

上述第2蒸发源和上述第2膜厚计之间的间隔距离比上述第1蒸发源和上述第1膜厚计之间的间隔距离更短。

9.如权利要求1至7任一项所述的真空蒸镀装置，其特征为，

在上述第2蒸发源的蒸发开口部的旁边和上述第2膜厚计的旁边分别设有具有开口的筒状流路。