[发明专利]光学用透明粘合片的制造方法、光学用透明粘合片及使用它的显示装置有效
申请号: | 201380005045.1 | 申请日: | 2013-01-07 |
公开(公告)号: | CN104039908A | 公开(公告)日: | 2014-09-10 |
发明(设计)人: | 小野洋介;布川达也;名塚正范;股木宏至 | 申请(专利权)人: | 株式会社大华 |
主分类号: | C09J7/00 | 分类号: | C09J7/00;B32B27/00;B32B27/16;C09J5/00;C09J183/00;G02B5/30 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 金世煜;苗堃 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 透明 粘合 制造 方法 使用 显示装置 | ||
1.一种光学用透明粘合片的制造方法,是光学部件组装用的有机硅系光学用透明粘合片的制造方法,其特征在于,对该光学用透明粘合片的与被粘体相接的粘合面的至少一部分或整面通过紫外线照射实施表面活化处理,形成与被粘体贴合后的剥离强度同贴合前的剥离强度相比经时增加的表面活化处理面。
2.根据权利要求1所述的光学用透明粘合片的制造方法,其特征在于,所述紫外线照射处理的波长为365nm以下,照射累积光量为30mJ/cm2以下。
3.根据权利要求1或2所述的光学用透明粘合片的制造方法,其特征在于,所述紫外线照射处理为准分子紫外线照射处理。
4.根据权利要求1所述的光学用透明粘合片的制造方法,其特征在于,在基于JIS Z0237进行的粘合力试验中,在90度剥离模式下,与所述被粘体贴合24小时后的剥离强度B相对于贴合初期的剥离强度A的剥离强度的增加量B-A为1N/20mm以上。
5.根据权利要求1所述的光学用透明粘合片的制造方法,其特征在于,在所述表面活化处理面进一步层叠活性维持层。
6.根据权利要求5所述的光学用透明粘合片的制造方法,其特征在于,所述活性维持层是具有选自醇酸树脂系、脂肪族酰胺系、氟硅烷系和氟代有机硅系中的剥离处理层的剥离膜。
7.一种光学用透明粘合片,其特征在于,是由权利要求1~6中任一项所述的制造方法得到的。
8.一种层叠体的制造方法,其特征在于,在由权利要求1~4中任一项所述的制造方法得到的光学用透明粘合片的表面活性处理面贴合被粘体,所述被粘体由选自保护面板、偏振片、相位差板、扩散膜和液晶显示装置中的光学部件构成。
9.一种层叠体,其特征在于,是由权利要求8所述的制造方法得到的。
10.一种光学部件,是使用权利要求7或9所述的光学用透明粘合片或层叠体而得到的。
11.一种光学用透明粘合片的制造装置,其特征在于,在权利要求1~6中任一项所述的光学用透明粘合片的制造方法中使用。
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