[发明专利]成型方法和成型装置无效

专利信息
申请号: 201380004994.8 申请日: 2013-01-11
公开(公告)号: CN104023942A 公开(公告)日: 2014-09-03
发明(设计)人: 河口宏辅;萩野竜也;田中觉 申请(专利权)人: SCIVAX股份有限公司
主分类号: B29C51/10 分类号: B29C51/10;B29C51/26
代理公司: 上海光华专利事务所 31219 代理人: 梁海莲;余明伟
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 成型 方法 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种将曲面成型在具有微细图案的膜的成型方法和成型装置。

背景技术

以往,作为形成微米级、纳米级的微细图案的方法,已知有纳米压印技术。这是在树脂等被成型物对具有微细图案的模具进行加压,利用热或光将该图案转印在被成型物的技术(例如参照专利文献1)。此外,还考虑了压印装置(例如参照专利文献2),其为了实现转印面积的增大而通过流体压力对具有可挠性的模具或工作台进行加压。

专利文献1:国际公开号WO2004/062886

专利文献2:日本特开2009-154393

发明内容

近年来,一直期待使用压印技术在透镜(lens)的曲面上形成蛾眼(moth-eye)构造。这里,为了将微细图案转印在曲面上,需要曲面状的模具。然而,存在制作用于将微细图案转印在曲面等非平面上的转印用模具很难并且成本花费较高的问题。

此外,本申请的发明人也考虑了将形成有微细图案的膜状的树脂膜具推抵于透镜曲面状的工作台来形成曲面的方法,但是对于曲率较大的曲面而言存在曲面无法成型、微细图案产生误差等问题。

因此,在本发明中,其目的在于提供一种能够简单且廉价地使曲面成型在具有微细图案的膜的成型方法和用于该成型方法的成型装置。

为了实现上述目的,本发明的成型方法,其用于在膜的规定的被成型区域成型超过该膜的厚度的曲面,该膜包括具有微细图案的图案面和与该图案面相向的背面,上述成型方法,包括:将上述膜的上述被成型区域的外缘部固定的固定工序;以及,以使得在上述固定工序中将上述树脂膜固定的一侧的流体压力相对较小的方式在上述树脂膜的两个面产生规定的压力差的调压工序。

在这种情况下,根据上述膜的材质,优选具有对该膜进行加热的第一加热工序。此外,优选在上述第一加热工序中,使被加热了的导热台与上述膜的背面接触来进行加热。

此外,上述调压工序可以将上述膜的图案面和背面中的任一方维持在大气压。此外,上述调压工序可以对上述图案面侧进行加压,也可以进行减压。

此外,成型方法还包括:将上述膜配置在具有作为所期望的曲面的受压面的受压台上,以使得在上述调压工序中形成的预曲面的背面重叠在受压面上的配置工序;以及,从上述图案面侧通过流体对上述膜向上述受压台进行加压的加压工序。

在这种情况下,根据上述膜的材质,优选具有在上述加压工序之前对该膜进行加热的第二加热工序。此外,优选具有在上述加压工序之前对上述膜与上述受压台之间的气体进行减压的减压工序。

此外,本发明的成形装置,其用于在膜的规定的被成型区域成型超过该膜的厚度的曲面,其中,该膜包括具有微细图案的图案面和与该图案面相向的背面,上述成型装置,包括:第一箱体,其在上述膜的图案面侧构成第一压力室;第二箱体,其在上述膜的背面侧构成第二压力室;固定机构,其将上述膜的上述被成型区域的外缘部固定;以及调压机构,其以使得由上述固定机构将上述膜固定的一侧的流体压力相对较小的方式调节上述第一压力室与上述第二压力室的压力差。

在这种情况下,根据上述膜的材质,优选具有用于对该膜进行加热的加热机构。此外,优选上述加热机构具有导热台,其形成为能够与上述膜的背面接触、分离,用于对与上述膜接触的部分均匀地加热。

此外,上述调压机构可以将上述第一压力室或上述第二压力室维持在大气压。此外,上述调压机构具有用于对上述第一压力室或上述第二压力室进行加压的加压机构,或者具有用于对上述第一压力室或上述第二压力室进行减压的减压机构。

此外,上述固定机构与上述第一箱体或上述第二箱体形成为一体。

本发明的成型装置和成型方法,能够简单且廉价地在膜上形成曲面。此外,如果在膜上先形成预曲面然后形成最终的曲面,则能够在膜上形成曲率较大且形成有精密的微细图案的曲面。

附图说明

图1是表示本发明的成型装置的局部截面图。

图2是表示本发明的成型装置的局部截面图。

图3是表示本发明的成型装置的局部截面图。

图4是表示本发明的另一成型装置的局部截面图。

图5是表示本发明的另一成型装置的局部截面图。

图6是表示本发明的另一成型装置的局部截面图。

图7是表示本发明的又一成型装置的局部截面图。

图8是表示本发明的又一成型装置的局部截面图。

图9是表示本发明的又一成型装置的局部截面图。

图10是表示本发明的成型装置的第二箱体的概略立体图。

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