[实用新型]电解铜箔真空上液装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种供液装置，更具体地说，尤其涉及一种电解铜箔真空上液装置。

背景技术

现有传统的电解铜箔输送硫酸铜液技术，其中之一为采用上液泵在硫酸铜电解液储罐上方，直接通过管道与硫酸铜电解液储罐连接，且连接管道下方安装有逆止阀，启动上液泵后直接把硫酸铜液输送到系统中，此方法弊端为管道中液体无法排出，维修困难；另一种为上液泵与硫酸铜电解液储存罐在同一水平面上，通过管道连接，启动上液泵后直接把硫酸铜液输送到系统中，这样的供液系统存在维修困难，费时，维修成本高的弊端，同时还存在硫酸铜液外冒，造成液体受污染及泵浦被硫酸铜腐蚀、损坏的隐患，危及电解铜箔生产的连续性要求，直接导致生产成本高。

实用新型内容

本实用新型的目的在于针对上述现有技术的不足，提供一种结构合理、使用和维护方便的电解铜箔真空上液装置。

本实用新型的技术方案是这样实现的：一种电解铜箔真空上液装置，包括硫酸铜电解液储存罐，其中所述硫酸铜电解液储存罐通过第一连接管连接有真空罐，所述真空罐通过第二连接管连接有上液泵，所述上液泵出液口与外部设备管路连接；在真空罐上设有控制阀。

上述的电解铜箔真空上液装置中，所述的真空罐和第二连接管的总容积是第一连接管容积的1.5倍。

上述的电解铜箔真空上液装置中，所述真空罐和上液泵均位于硫酸铜电解液储存罐上方。

本实用新型采用上述结构后，通过将真空泵和上液泵设置在硫酸铜电解液储存罐上方，并且，在真空罐上设置控制阀，使得需要进行维修时，打开控制阀，使空气进入真空罐内，硫酸铜溶液就会自动回流至硫酸铜电解液储存罐内，从而可随时对上液泵进行维修，不必担心出现管道硫酸铜结晶或液体外冒受污染的隐患发生。

附图说明

下面结合附图中的实施例对本实用新型作进一步的详细说明，但并不构成对本实用新型的任何限制。

图1是本实用新型的结构示意图。

图中：硫酸铜电解液储存罐1、第一连接管2、真空罐3、第二连接管4、上液泵5、控制阀6。

具体实施方式

参阅图1所示，本实用新型的一种电解铜箔真空上液装置，包括硫酸铜电解液储存罐1，所述硫酸铜电解液储存罐1通过第一连接管2连接有真空罐3，所述真空罐3通过第二连接管4连接有上液泵5，所述上液泵5出液口与外部设备管路连接，并且，所述真空罐3和上液泵5均位于硫酸铜电解液储存罐1上方，这样方便溶液回流；在真空罐3上设有控制阀6。其中，所述真空罐3和第二连接管4的总容积是第一连接管2容积的1.5倍。

工作时,打开控制阀6，往真空罐3中注水或是硫酸铜电解液，当水或硫酸铜电解液注满真空罐3及第二连接管4时，第一连接管2中的空气被排出成为真空，此时关闭控制阀6，启动上液泵5，第二连接管4与真空罐3中的水或硫酸铜电解液被抽出，由于气压差作用，硫酸铜电解液储存罐1中的电解液被压至第一连接管2中，再进入真空罐3，这样就完成了电解铜箔真空上液的要求。

当上液泵5或管道等硬件需要维修时，停止上液泵5，并将真空罐3及第二连接管4中的电解液排出，即可以从容进行维修作业。

以上所举实施例为本实用新型的较佳实施方式，仅用来方便说明本实用新型，并非对本实用新型作任何形式上的限制，任何所属技术领域中具有通常知识者，若在不脱离本实用新型所提技术特征的范围内，利用本实用新型所揭示技术内容所作出局部更动或修饰的等效实施例，并且未脱离本实用新型的技术特征内容，均仍属于本实用新型技术特征的范围内。