[实用新型]一种膜层刻蚀防损伤监控设备

权利要求书

1.一种膜层刻蚀防损伤监控设备，其特征在于，包括腔室，所述腔室中设有光源和若干个光感探头，所述光源向基板上的所述膜层照射，所述光感探头用于感应所述膜层的透光率。 

2.如权利要求1所述的监控设备，其特征在于，所述腔室为真空腔室，所述真空腔室连通反应气体源；所述真空腔室中设有刻蚀装置。 

3.如权利要求2所述的监控设备，其特征在于，所述刻蚀装置具体包括： 

相对设置的上极板和下极板，其中一个极板接地，另外一个极板接射频电源，使得上极板和下极板之间生成对基板进行刻蚀的等离子体； 

所述下极板用于放置待刻蚀的基板。 

4.如权利要求3所述的监控设备，其特征在于，所述光源位于所述上极板上； 

或者，所述光源位于真空腔室的侧壁； 

或者，所述光源位于真空腔室的上壁。 

5.如权利要求4所述的监控设备，其特征在于，所述光感探头设置于所述下极板远离所述基板的一侧。 

6.如权利要求1或2所述的监控设备，其特征在于，所述光感探头的数量为5-25个，均匀分布。 

7.如权利要求1或2所述的监控设备，其特征在于，还包括用于提供射频电流以产生等离子体的射频电源，所述射频电源在断电时间段进行膜层的透光率的监测。