[实用新型]一种湿法刻蚀机刻蚀装置有效
申请号: | 201320833748.0 | 申请日: | 2013-12-17 |
公开(公告)号: | CN203782235U | 公开(公告)日: | 2014-08-20 |
发明(设计)人: | 胡伟;叶成枝;肖冠华;杨子衡;吴代吾;侯智 | 申请(专利权)人: | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | C23F1/08 | 分类号: | C23F1/08 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 李迪 |
地址: | 230012 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 湿法 刻蚀 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种蚀刻装置,特别涉及一种用于湿法蚀刻的相关装置。
背景技术
薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,TFT-LCD)是目前常见的液晶显示器产品,在其生产过程中,湿法刻蚀工艺是极其重要的一个环节。.
湿法刻蚀是利用混合酸液对玻璃表面PR未覆盖的金属进行刻蚀,从而形成所需要的金属图案。因此湿法刻蚀的好坏直接影响产品的好坏。
目前,在TFT-LCD生产湿法刻蚀工艺中,刻蚀速率、线宽、均一性、坡度角是衡量刻蚀好坏的标准。但在实际生产过程中,这些关键参数并不能达到我们所预想的标准。实际生产过程中,由于湿法刻蚀的这种刻蚀方式,当基板在刻蚀设备内进行刻蚀时,药液喷洒在基板后从基板四周流出,造成基板四周的药液置换速率快而基板中间的药液置换速率慢,导致基板四周部分刻蚀的快而基板中间部分刻蚀的慢,最终导致整个基板刻蚀不均匀、线宽不一、坡度角不好等不良,而这种不良直接影响到产品良率。需要指出的是,随着玻璃基板的大型化发展这种不良就越发明显。
有鉴于此,特提出本实用新型。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种用于湿法蚀刻机的蚀刻装置,以解决现有蚀刻机蚀刻不均匀、线宽不一、坡角度不好等缺陷。
为实现上述目的,本实用新型采用如下技术方案:
一种湿法刻蚀机刻蚀装置,包括供液总管道与至少两组同心矩形管道,其特征在于:每组矩形管道均经由一供液支管连接至供液总管,并通过可旋转弯头固定在支撑架上,矩形管道上均布多个喷淋装置。
其中,各供液支管上设有计量阀门。该阀门用于调整每个矩形管道供液的流量压力,以达到选择性刻蚀的作用;需要指出的是,该计量阀门可以是节流阀,配合相应流量计和压力计,达到自动精准控制的目的;另外,如果通过开关此阀门,还可实现选择性补刻的目的,对解决不良、验证新刻蚀液测试等效果明显。
为了获得更理想的刻蚀效果,本实用新型所述刻蚀装置,在矩形管道的对称轴位置上设有至少一根可驱动连杆,使得刻蚀装置能够纵横两个方向的摆动喷淋,可以进一步改善刻蚀均一性、刻蚀率等。
其中,矩形管道与连杆的固定方式可选择现有技术公开的多种,如在矩形管道的对称轴位置,以及连杆的相应位置分别设有通过螺栓连接的定位片等,具体为本领域技术人员所掌握,本实用新型对此不作特别限定。
本实用新型所述的刻蚀装置,所述喷淋装置包括自矩形管道垂直向下延伸的喷淋管及设于喷淋管末端的喷嘴,喷淋管的长度相等,或自矩形管道的中心向外依次递增或递减,形成整体类凹弧状或凸弧状,有利于形成更好的喷淋效果。
本实用新型所述的刻蚀装置,所述的矩形管道为正方形或长方形(即矩形管道)。每组矩形管道在四个角上均设置可旋转弯头,矩形管道下方对角线位置交叉设有两根支撑架,矩形管道上方的对称轴位置设有两根可驱动所有矩形管道的连杆。
本实用新型未对喷淋装置的具体布局结构作出限定,本领域技术人员依据实际的处理对象对喷淋装置的数量、间距、形状等作出选择及调整,本实用新型对此不作特别限定。
本实用新型所述的刻蚀装置,所述矩形管道为3~8组等距设置的同心矩形管道。优选4组。具体的设置可依据具体需求。
本实用新型所述的刻蚀装置连有控制元件,驱动连杆使喷淋装置轴向摆动。矩形管道由多节支管经可旋转弯头连接构成,管道弯头固定在支撑架上,用于支撑整个矩形管道。管道弯头为内部连通且带有旋转接头的管道弯头,以使得每个矩形管道内部导通,且可以使得各个分管道轴向转动。
使用时,液体自供液总管道经供液支管供液至各组同心矩形管道,进而通过分布矩形管道上的喷淋装置喷洒到玻璃基板上进行刻蚀。供液过程中,通过计量阀门调整每个分布矩形管道供液的流量压力,以达到选择性刻蚀的作用。
本实用新型湿法刻蚀机刻蚀装置,通过对刻蚀均一性的分布进行设计,采用符合刻蚀均一性特点分布的喷淋装置,以及通过计量阀门控制各矩形管道上流量压力的不同,达到选择性刻蚀的目的,从而达到改善刻蚀不均匀、线宽不一、坡度角不好等不良的目的。此外,需要指出的是本实用新型不仅仅应用于刻蚀工艺,应用在基板的清洗工艺一样能达到改善清洗效果的目的;同样,应用在剥离、显影等工艺也是如此。
附图说明
图1本实用新型装置立体图;
图2本实用新型装置俯视图;
图3本实用新型装置前视图;
主要元件附图标记:
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