[实用新型]成膜装置有效

专利信息
申请号: 201320832887.1 申请日: 2013-12-17
公开(公告)号: CN203678610U 公开(公告)日: 2014-07-02
发明(设计)人: 塚原大祐;鹈饲贵司;西胁谦一郎;长滨利一 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: B05C5/00 分类号: B05C5/00;B05C11/00;B05C11/02;B05C11/10
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种成膜装置,详细地说涉及一种用于将清漆涂覆在基材上来形成膜的成膜装置。

背景技术

以往,公知有各种用于将含有树脂的清漆涂覆在基材上来形成膜的装置。

例如,提出有一种缝模涂覆装置,该缝模涂覆装置具有形成有用于向涂覆基材供给涂覆液的狭缝的缝模,狭缝与涂覆基材相对,与涂覆基材相对的狭缝的剖面形成为在其两端部相对地抑制涂覆液的供给的形状(例如,参照下述专利文献1)。

在专利文献1的缝模涂覆装置中,在清漆为非牛顿流体的情况、或清漆与要被涂覆清漆的基材之间的亲和性较低的情况下,能够有效地抑制所涂覆的膜(涂膜)的两端部比中央部隆起的隆起部分的产生。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2004-305955号公报

但是,在专利文献1所记载的缝模涂覆装置中,有时不能够将膜准确地形成于基材。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种能够将所涂覆的膜准确地形成于基材的成膜装置。

本实用新型的成膜装置的特征在于,包括:载物台、支架、涂覆构件、位移计以及膜厚控制机构,所述载物台用于放置基材;所述涂覆构件包括泵和与所述泵相连的喷嘴;所述涂覆构件以所述喷嘴对着所述载物台的方式支承在所述支架上,并能够在所述支架上调整位置;所述位移计用于检测所述喷嘴与从所述喷嘴涂覆于所述基材的膜的被涂覆面之间的距离,和/或测定所述膜的厚度;所述膜厚控制机构用于控制所涂覆的所述膜的厚度。

根据该成膜装置,能够利用位移计检测喷嘴与从喷嘴涂覆于基材的膜的被涂覆面之间的距离,和/或测定膜的膜厚,并能够根据该距离和/或膜厚在支架上调整涂覆构件的位置,并且能够利用膜厚控制机构控制所涂覆的膜的厚度。

因此,能够将所涂覆的膜准确地形成于基材。

另外,在本实用新型的成膜装置中,优选的是,所述位移计为激光位移计。

根据该成膜装置,能够利用激光位移计更准确地检测喷嘴与从喷嘴涂覆于基材的膜的被涂覆面之间的距离,和/或测定膜的膜厚,而且,能够在线检测、即连续地检测刚涂覆后的膜。

另外,优选的是,本实用新型的成膜装置还包括:标记形成装置,其用于在所述基材上形成对准标记;以及对准装置,其用于根据所述对准标记进行对准。

根据该成膜装置,能够利用对准装置根据对准标记将喷嘴对准基材。因此,能够将所涂覆的膜更准确地形成于基材。

另外,在本实用新型的成膜装置中,优选的是,所述标记形成装置为冲头,所述冲头冲压所述基材形成所述对准标记;所述对准装置为照相机。

根据该成膜装置,能够利用标记形成装置简单地形成对准标记,并根据该对准标记,利用对准装置简单地将喷嘴对准基材。

另外,在本实用新型的成膜装置中,优选的是,所述对准标记形成在所述基材的沿涂覆方向的两侧。

根据该成膜装置,能够根据对准标记高精度地调整膜的涂覆方向的长度。

另外,优选的是,本实用新型的成膜装置还包括测向装置,用于确认所述喷嘴的运行方向。

根据该成膜装置,能够利用测向装置检测喷嘴的运行方向,因此能够准确地调整喷嘴相对于基材的涂覆方向。

另外,在本实用新型的成膜装置中,优选的是,所述测向装置为照相机。

根据该成膜装置,能够利用照相机简单地检测喷嘴的运行方向。

另外,在本实用新型的成膜装置中,优选的是,所述载物台为吸附式载物台。

根据该成膜装置,如果在吸附式载物台上放置基材,并使吸附式载物台运行,则能够将基材可靠地固定于吸附式载物台。因此,能够将膜进一步准确地形成于基材。

另外,在本实用新型的成膜装置中,优选的是,所述载物台的平坦度在1500mm的涂覆行程中保持在50μm以下。

根据该成膜装置,由于载物台的平坦度为上述上限以下,因此能够将喷嘴准确地相对于基材配置,由此,能够将膜高精度地形成于基材。

另外,在本实用新型的成膜装置中,优选的是,所述泵为蛇形泵,所述混合器为静态混合器。

根据该成膜装置,能够利用作为蛇形泵的泵向混合器定量地供给用于构成膜的清漆,并且能够利用作为静态混合器的混合器静态地进行搅拌。因此,能够高精度地形成膜。

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