[实用新型]测试结构

权利要求书

1.一种测试结构，其特征在于，所述测试结构包括多个测试单元以及多个金属连线，所述测试单元内设有多个第一栅极和第一通孔连线，所述第一栅极和第一通孔连线由介质层隔离开，所述金属连线包括第一金属连线和第二金属连线，所述第一金属连线与所述第一栅极连接，所述第二金属连线与所述第一通孔连线连接。 

2.如权利要求1所述的测试结构，其特征在于，所述测试单元还包括活动区、第二栅极和第二通孔连线，所述第二通孔连线形成于所述活动区和第二栅极之上，并与所述第一栅极通过所述介质层隔离开，所述第一通孔连线形成于所述活动区之上。 

3.如权利要求2所述的测试结构，其特征在于，所述第二通孔连线的个数为2个。 

4.如权利要求3所述的测试结构，其特征在于，所述测试结构还包括第三金属连线，所述第三金属连线与所述第二通孔连线连接。 

5.如权利要求4所述的测试结构，其特征在于，所述测试结构还包括第一测试盘、第二测试盘和第三测试盘，所述第一测试盘与所述第一金属连线相连，所述第二测试盘与所述第二金属连线相连，所述第三测试盘与所述第三金属连线相连。 

6.如权利要求5所述的测试结构，其特征在于，所述测试结构还包括一选择单元，所述选择单元分别设置于所述第二测试盘与第二金属连线、第三测试盘与第三金属连线之间。 

7.如权利要求6所述的测试结构，其特征在于，所述选择单元由4个PMOS器件组成。 

8.如权利要求1所述的测试结构，其特征在于，所述第一金属连线与所述第一栅极通过第三通孔连线连接。 

9.如权利要求8所述的测试结构，其特征在于，所述第三通孔连线的个数 为2个。 

10.如权利要求1所述的测试结构，其特征在于，所述测试单元内的第一通孔连线个数为2个。 

11.如权利要求1所述的测试结构，其特征在于，所述测试单元的个数大于等于1000个。