[实用新型]研磨垫调整器有效
| 申请号： | 201320805343.6 | 申请日： | 2013-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN203622204U | 公开（公告）日： | 2014-06-04 |
| 发明（设计）人： | 唐强 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | B24B53/017 | 分类号： | B24B53/017 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 调整器 | ||
【权利要求书】：
1.一种研磨垫调整器，用于对研磨垫进行修整，其特征在于，所述研磨垫调整器包括衬底、位于衬底表面的多个调整颗粒以及用于将所述调整颗粒固定在所述衬底表面的连接物，其中，所述衬底的边缘设有凹陷区。
2.如权利要求1所述的研磨垫调整器，其特征在于，所述凹陷区为圆环区。
3.如权利要求2所述的研磨垫调整器，其特征在于，所述凹陷区的凹陷深度范围是0.5mm～1mm。
4.如权利要求2所述的研磨垫调整器，其特征在于，所述凹陷区的凹陷宽度范围是0.5mm～8mm。
5.如权利要求1所述的研磨垫调整器，其特征在于，所述调整颗粒的总个数为1～1000个。
6.如权利要求1所述的研磨垫调整器，其特征在于，位于所述凹陷区的调整颗粒的个数为1～100个。
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